Occasion AIXTRON Crius I #9065475 à vendre en France

AIXTRON Crius I est un réacteur à plasma inductif à échelle commerciale. Ce réacteur offre les meilleures performances en classe en uniformité de substrat et taux de gravure élevés, ce qui en fait un choix idéal pour augmenter la production. Son empreinte compacte et son faible coût total de possession le rendent hautement configurable pour une gamme de besoins spécifiques à l'application. Crius I a une construction simple et modulaire. La chambre et l'anneau d'extrémité de forme cylindrique sont en acier inoxydable et présentent une enveloppe de refroidissement à l'eau qui permet une température de fonctionnement stable allant jusqu'à 1000 ° C Le support de substrat est en graphite et a une surface plane pour accueillir de grands substrats jusqu'à 100mm de diamètre. Un générateur RF alimente les bobines d'induction du réacteur pour produire les plasmas ICP nécessaires et est relié à un contrôleur pour assurer un contrôle précis des paramètres plasmatiques. AIXTRON Crius I utilise une technologie numérique à haut débit pour permettre un dépôt plasma très uniforme. Son système avancé de contrôle de polarisation de la tête de douche RF permet le dépôt uniforme de diverses espèces sur le substrat pour des processus optimaux. Il dispose également d'un contrôle de polarisation RF à haute vitesse pour assurer une répartition uniforme des espèces métalliques le long des parois de la chambre, ce qui améliore l'uniformité des gravures. Crius I offre également une large gamme de dispositifs de sécurité tels qu'un pare-flamme qui empêche la flamme de se propager à d'autres composants, et une unité intégrée de détection et de contrôle des étincelles. Il a une construction simple et fiable qui est conçu pour fonctionner en continu pendant de longues périodes à haute température, ce qui le rend idéal pour des opérations à haut rendement et à haut volume. Dans l'ensemble, AIXTRON Crius I est un réacteur de pointe à l'échelle commerciale qui offre une performance inégalée, une empreinte compacte et un faible coût total de possession. C'est un choix idéal pour augmenter la production et maximiser les rendements dans les applications à haut volume.