Occasion AIXTRON Crius I #9351635 à vendre en France

AIXTRON Crius I est un réacteur à dépôt thermique en phase vapeur (CVD) de type plasmatron conçu pour des performances supérieures de dépôt en couche et un contrôle de qualité industriel. Il est adapté à un large éventail d'applications et de matériaux et convient pour des structures à haut rapport d'aspect. Crius I est conçu pour déposer des couches sur des plaquettes de 1 à 8 pouces de diamètre. AIXTRON Crius I utilise le plasma RF pour exciter le matériau source dans des états ioniques et radicaux afin de créer un revêtement uniforme à basse température. Le matériau source est introduit sous forme de gaz vaporisé par une source d'effusion dans la chambre. Le gaz est ensuite excité par un plasma RF fourni par l'alimentation électrique du réacteur. Le plasma RF dissocie le gaz en espèces ioniques et radicalaires qui fusionnent avec le matériau source pour former la couche désirée sur la plaquette. Cela crée des couches uniformes avec une excellente couverture d'étape et un dépôt sans trou d'épingle. Crius I est équipé d'un large éventail de fonctionnalités et de capacités, y compris un chargeur automatique de plaquettes, le nettoyage de faisceau d'ions, le contrôle et la surveillance de la température, les pompes de défilement, la commande de puissance RF, et les modules multi-zones. Ceci permet le dépôt de couches avec divers matériaux sources et à de multiples substrats sans nécessiter d'équipement supplémentaire. AIXTRON Crius I est un réacteur CVD thermique avancé conçu pour des applications de qualité industrielle et de développement de processus. Il est idéal pour le dépôt de couches avec des structures de rapports d'aspect élevés, un débit élevé et des paramètres de processus répétables d'un lot à l'autre. Le large éventail de sources de matériaux autorisé par Crius I garantit une fiabilité et des propriétés de matériaux améliorées par rapport aux procédés traditionnels PECVD ou LPCVD.