Occasion AIXTRON Crius II X-L vu #9408188 à vendre en France

AIXTRON Crius II X-L vu est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe conçu pour la croissance de structures graphéniques à grande échelle. Il présente un design de suscepteur en creux avec une hauteur de chambre peu profonde variable qui permet un contrôle précis de l'épaisseur et de l'alignement des couches de graphène. Crius II X-L vu comprend également un équipement de nettoyage CVD (CCS), qui nettoie le carbone déposé de la plaquette pour une meilleure qualité des matériaux et moins d'impuretés. En outre, le système comprend un réchauffeur à plaquettes de haute précision, qui assure un chauffage uniforme et homogène pour un meilleur contrôle thermique dans le processus de croissance. AIXTRON Crius II X-L vu est un réacteur CVD avancé qui est bien adapté pour une croissance à haut débit et répétable des couches de graphène de grande surface. L'unité est contrôlée via une interface utilisateur graphique propriétaire (UI) qui permet de paramétrer complètement chaque étape du processus de croissance. Cela inclut des paramètres tels que la température, la pression et le débit, et permet une optimisation complète du processus. Crius II X-L vu comprend également une machine de verrouillage de charge permettant le chargement et le déchargement rapides des plaquettes. AIXTRON Crius II X-L vu offre d'excellentes conditions de croissance, avec des températures réglables jusqu'à 1150 ° C, et une pression réglable jusqu'à 100 Torr. Cela permet d'affiner les paramètres de croissance pour contrôler avec précision l'épaisseur, l'alignement, la taille et le nombre de couches cultivées. Crius II X-L vu est également capable de produire des couches de graphène continu de haute qualité avec d'excellentes propriétés électriques. L'outil comprend une suite complète de régulateurs de température indépendants pour le contrôle de la température dans chaque zone, ainsi qu'une conception unique de chambre double côté, offrant une efficacité globale considérable. Toutes ces fonctionnalités font d'AIXTRON Crius II X-L vu un excellent outil pour la croissance du graphène à grande échelle. Grâce à sa conception avancée, à son réchauffeur à plaquettes de haute précision et à sa température, sa pression et son débit réglables, Crius II X-L vu est l'outil idéal pour les chercheurs et les ingénieurs de l'industrie qui cherchent à étudier et à produire des couches graphiques de haute qualité.