Occasion AIXTRON Crius II #293587244 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un équipement de dépôt à grande surface monté horizontalement qui utilise une technologie de processus à deux chambres, ce qui permet d'améliorer l'uniformité des processus, leur débit et leur contrôle précis. Ce procédé de dépôt horizontal est idéal pour le processus ambiant contrôlé (PAC). La conception de Crius II est basée sur la taille de la plaquette de substrat 32 ", qui peut traiter des applications jusqu'à la taille de la plaquette 300mm. Avec son design compact et sa faible empreinte de 1,7 m x 1,5m, AIXTRON Crius II chambre de procédé est 6,5 mètres cubes en volume, permettant un espace de contrôle généreux lors de l'installation des réacteurs et des composants de processus à l'intérieur de la chambre. La chambre de procédé Crius II contient un certain nombre de composants, dont trois sources RF de forte puissance, une source de pulvérisation magnétron, une source d'ions et des sources de diffusion à haute température. Deux sources RF sont utilisées pour le dépôt et deux pour la gravure. AIXTRON Crius II est capable de permettre le dépôt par pulvérisation magnétron, plasma à distance, sources thermiques et réacteurs à haute température. La chambre est régulée en fonction de la température de traitement souhaitée et comporte deux alimentations en gaz distinctes pour chaque chambre de traitement. Le contrôleur de gaz à deux étages contrôle indépendamment les niveaux de gaz, la pression et le débit vers les chambres de traitement. Ce système de contrôle avancé fournit une large gamme de paramètres de processus pour optimiser le processus et la qualité de la plaquette cible. L'unité de contrôle avancée utilisée par Crius II permet également un contrôle automatisé et manuel des paramètres du processus, y compris le placement du masque source, la pression, la vitesse du substrat et la température. Le substrat est mis en rotation à l'intérieur de l'enceinte à l'aide d'une table rotative in situ, permettant un dépôt et une gravure uniformes. La machine de contrôle avancée d'AIXTRON Crius II la rend également compatible avec plusieurs options de refroidissement en chambre, ce qui permet à l'utilisateur d'adapter les solutions de refroidissement aux exigences du processus individuel. La chambre de traitement Crius II est conçue pour traiter un large éventail de matières dangereuses, y compris les gaz des groupes B et C. Enfin, AIXTRON Crius II chambre offre une variété d'outils de diagnostic en ligne y compris l'imagerie in situ, spectroscopie d'émission optique, microbalance à cristaux de quartz, et un certain nombre d'autres évaluations diagnostiques. Ces outils permettent aux utilisateurs d'identifier les sources potentielles de contamination, les films d'oxyde, les dépôts de particules et de surveiller l'uniformité des films.