Occasion AIXTRON Crius II #293591984 à vendre en France

AIXTRON Crius II est une version de production améliorée de l'équipement CVD basse pression (LPCVD) développé par AIXTRON. Crius II est un réacteur multi-plaquettes, caractérisé par sa capacité à fournir un dépôt conforme, uniforme et répétable supérieur de précurseurs sur une variété de substrats de plaquettes. Le matériau précurseur est scellé puis transporté dans une chambre CVD, où le dépôt se forme à des pressions plus basses (1-200 mbar) et à des températures basses (200-600 ° C). AIXTRON Crius II est une solution fiable et rentable pour une gamme d'applications de recherche. Sa conception de petite chambre minimise les charges thermiques, assurant une uniformité et une répétabilité maximales des dépôts. L'environnement basse pression empêche les radicaux d'affecter la qualité du dépôt obtenu. Ainsi, le Crius II permet des variations d'épaisseur constantes aussi faibles que 0,5 nm. De plus, grâce à son large éventail de combinaisons de température et de pression, le réacteur peut gérer efficacement diverses croissances de matériaux - y compris le dépôt de matériaux semi-conducteurs et magnétiques. Outre la précision inhérente à AIXTRON Crius II, la chambre a également été équipée d'un système de contrôle AIXTRON. Ceci comprend une conception unique de la chambre, avec des couches d'enceinte améliorées, un contrôle automatique et manuel de la zone, des systèmes de refroidissement et de chauffage améliorés pour permettre l'uniformité de la température, et une unité de contrôle du débit de gaz réglable. De plus, pour obtenir une flexibilité de procédé, Crius II est en mesure d'utiliser des algorithmes de « dépôt séquentiel » et de « contrôle de flux séquentiel » pour permettre le dépôt de plusieurs couches de matériaux différents dans une chambre. Cette machine de contrôle pionnière offre également des fonctionnalités telles que l'enlèvement automatisé des hydrocarbures, la gestion des recettes dépendante des routes, et des fonctions de maintenance préventive. En résumé, AIXTRON Crius II est un outil avancé LPCVD équipé pour gérer un large éventail d'applications de dépôt de matériaux. Avec ses capacités de dépôt précises et répétables et ses moyens de contrôle sophistiqués, Crius II est un choix idéal pour les chercheurs dans le domaine des dépôts semi-conducteurs et magnétiques.