Occasion AIXTRON Crius II #293607523 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
Crius II
ID: 293607523
Style Vintage: 2010
MOCVD System Chamber, 2" Source: TMGa-1, TMGa-3, TEGa2, Cp2Mg-1, Cp2Mg-2, TMIn-1, (7) TMAl-1 (4) Wires with groung wiring ARGUS Temperature monitor Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4 GaN Gouve (2) RAUDA RE235 Baths (4) NOAH Precision baths HORIBA MFC Type AFFINITY Chiller Power supply: 208 / 120 V AC, 3-Phase Heater voltage: 380 V AC, 3-Phase Does not include (2) Scroll pumps 2010 vintage.
AIXTRON Crius II est un réacteur de la société AIXTRON, spécialement conçu pour la recherche et le développement de semi-conducteurs et LED avancés. Crius II est une séquence de trois modules - Double-substrat MOCVD, Single Wafer Showerhead et le simulateur Gleeble, qui permet à l'utilisateur de faire des mesures précises de leurs méthodes de croissance et de dépôt. Le réacteur MOCVD à double substrat est un équipement qui permet à l'utilisateur de profiter de l'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) et du dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD). Le système utilise une vanne programmable et une série de pompes à vide pour créer un taux de croissance plus élevé, réduire les coûts et augmenter l'efficacité. Ce réacteur est capable de croissance épitaxiale de trois manières : MBE, MOCVD et croissance épitaxiale assistée par autoclave. Le réacteur peut également être configuré pour jusqu'à huit sources pour des structures monocouches, multicouches et 3D. La tête de douche Single Wafer permet à l'utilisateur de déposer des couches de matériau de haute qualité au niveau de la plaquette, avec un minimum de temps d'arrêt entre les mises à jour wi40afer et les changements de substrat. Le disque rotatif breveté permet des dépôts uniformes dans toute la plaquette sans intervention manuelle. Le simulateur Gleeble offre également aux utilisateurs la possibilité de simuler des profils de température et des processus thermiques, avec l'avantage supplémentaire de l'arrêt automatique des processus anormaux. Le simulateur est équipé d'une unité de pression qui permet à l'utilisateur de contrôler l'atmosphère de traitement et la surveillance des événements au sein de la machine. La plateforme AIXTRON Crius II est un outil polyvalent et puissant pour le développement de semi-conducteurs et de LED avancés. Il est devenu l'outil standard dans l'industrie des semi-conducteurs et est utilisé dans un large éventail d'applications de recherche, de développement et de production. Le réacteur est fiable et rentable, tout en offrant aux utilisateurs une grande flexibilité.
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