Occasion AIXTRON Crius II #293627743 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
Crius II
ID: 293627743
Style Vintage: 2011
MOCVD System 2011 vintage.
AIXTRON Crius II est un système de dépôt à haute performance et à source solide conçu pour le dépôt en couches minces de métaux et de matériaux diélectriques. C'est la version la plus avancée de la série AIXTRON Crius et est largement considérée comme un changeur de jeu dans la production de nanomatériaux. Crius II allie haut débit, reproductibilité et fiabilité pour la production de couches minces pour des applications optiques et électroniques. Le système se compose de deux sources modulaires, d'une unité de contrôle de la source et d'une cuve source, toutes avec des conditions thermiques contrôlées indépendamment. Les substrats peuvent être jusqu'à 200mm de dimension et peuvent être placés sur les étages chauffés pouvant atteindre 1000 ° C Diverses sources de dépôt amovibles sont disponibles, y compris des sources magnétron et creuset, permettant un large éventail de processus de formation de couches minces. AIXTRON Crius II est capable de produire des films minces avec une épaisseur uniforme et d'excellentes caractéristiques, tout en offrant une vitesse de dépôt élevée allant jusqu'à 400nm/min. Le système a la capacité de délivrer des films d'oxyde métallique avec une bonne stoechiométrie et une densité de défauts réduite, ainsi que des films métalliques avec une rugosité de surface supérieure et une excellente macro-morphologie. Il a également été conçu avec une capacité de débit élevée et optimisé pour la production à grande échelle de films minces et de matériaux nanostructurés. Crius II permet le contrôle des processus grâce à une interface graphique intuitive et propose des recettes préinstallées pour une large gamme de matériaux en couches minces, permettant le contrôle automatisé des processus. Il dispose également de dispositifs de sécurité avancés et de systèmes de surveillance de la température. AIXTRON Crius II est un choix idéal pour la production de films minces de haute performance, avec la capacité de produire des films minces avec une meilleure uniformité et des caractéristiques supérieures. Avec son large éventail de sources amovibles, son taux de dépôt élevé et sa facilité de contrôle des procédés, Crius II est un outil précieux pour la production de nombreux nanomatériaux.
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