Occasion AIXTRON Crius II #293636257 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour répondre aux besoins de l'industrie de la technologie à couches minces. Il est conçu pour le dépôt de matériaux amorphes et cristallins, ciblant la production de matériaux semi-conducteurs, optiques et d'affichage. Le réacteur est capable de procédés de dépôt uniformes, permettant le dépôt multi-sources de matériaux complexes jusqu'à 200 mm de plaquettes. Ce modèle de réacteur AIXTRON Crius utilise la technologie de dépôt sans ligne de visée brevetée AIXTRON, en utilisant des champs thermiques indépendants optimisés indépendamment. On obtient ainsi une homogénéité de température exacte sur toute la surface du substrat, ce qui permet des processus de dépôt plus précis. En outre, le réacteur est conçu avec un mélange de gaz supérieur, ce qui permet un contrôle avancé du procédé et un contrôle plus élevé de l'épaisseur finale du film. Le réacteur est livré avec plusieurs caractéristiques matérielles pour améliorer la manipulation du substrat et améliorer la productivité. Cela comprend un ascenseur de plaquettes, le refroidissement de plaquettes et le préchauffage du gaz, l'insertion et le retrait, et le contrôle automatisé de la pression. Les temps de cycle thermique extrêmement courts permettent un échauffement et un refroidissement rapides. Crius II dispose également d'une exploitation fiable et efficace à long terme, avec de faibles coûts d'exploitation et de maintenance. En outre, AIXTRON Crius II dispose d'une gamme de fonctions de suivi des processus et de la productivité. Cela comprend une vanne de commande à haute résolution, une unité d'affichage visuel, un bord de plaquette et un moniteur de température de bord, et un moniteur de température de plaquette en temps réel. Elles contribuent à assurer un processus rapide et efficace, tout en produisant des résultats cohérents à tous les niveaux. Toutes ces fonctionnalités font de Crius II une solution idéale pour les entreprises de technologie à couche mince. Il peut traiter avec précision des matériaux semi-conducteurs, optiques et d'affichage complexes, ce qui permet d'améliorer la qualité des films et les rendements des substrats. Les temps de cycle thermique rapide et le fonctionnement fiable d'AIXTRON Crius II lui donnent un avantage sur la concurrence, ce qui en fait un excellent choix pour tout scénario de production.