Occasion AIXTRON Crius II #293659969 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur de traitement horizontal par lots monobloc d'une surface maximale de dépôt de 300mm. Conçu pour une fabrication à haut volume, il offre un débit élevé, l'uniformité, et l'utilisation de matériaux réactifs. Crius II utilise jusqu'à trois sources de gaz et, selon les applications, deux sources de particules énergétiques (électrons ou ions) pour la croissance des matériaux III-V. L'équipement est conçu pour la stabilité du processus, avec un contrôle intégré de la distribution des gaz volatils, une analyse automatisée des gaz et un pyromètre optique pour le contrôle de la température in situ. Il dispose d'une chambre étanche pour l'alimentation en gaz réactif, avec une source standard de plasma à couplage inductif (ICP) pour le contrôle du plasma. AIXTRON Crius II utilise le procédé PVD (Plasma Vapor Deposition), avec un processus PECVD hybride optionnel pour une plus large gamme d'applications. Le système dispose d'une unité de contrôle du débit pour l'alimentation des gaz réactifs ainsi que d'un contrôle du vide dans la chambre de procédé. Ceci offre une plus grande précision et un meilleur contrôle des niveaux de réactifs et d'impuretés, ainsi qu'une meilleure uniformité de température. Un modèle prédictif permet de contrôler la recette à toutes les étapes du processus. Une machine d'analyse de gaz mesurée intégrée permet un contrôle proactif des paramètres du processus à chaque étape. Le réacteur peut traiter jusqu'à trois sources de particules énergétiques (électrons ou ions) et offre la possibilité d'exploiter leurs synergies pour différentes applications. L'outil est équipé de dispositifs de sécurité avancés, y compris une détection intégrée des fuites de gaz et de vide et un verrouillage de sécurité triple couche. Crius II est conçu pour l'industrialisation et offre de grandes tailles de lots, une stabilité de processus rapide, et l'uniformité. Il est adapté à la production de produits semi-conducteurs et photoniques de haute qualité et peu coûteux. Avec son haut rendement, son contrôle optimisé des processus et son automatisation, AIXTRON Crius II est un excellent choix pour la production de dispositifs optoélectroniques et nanophotoniques.