Occasion AIXTRON Crius II #293831257 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces et le traitement des semi-conducteurs. Il est spécifiquement conçu pour fournir des films de haute qualité pour la recherche de matériaux avancés et la fabrication de dispositifs. Le réacteur est un équipement à pression atmosphérique monobloc qui supporte jusqu'à deux plaquettes à la fois. Il offre une pression faible de 0,7 à 2 Torr et une plage de température élevée de 50 à 500 ° C Crius II est composé de plusieurs modules et composants. Les deux modules primaires sont le système de serrure et la chambre principale. L'unité de verrouillage de charge maintient les plaquettes et assure une protection pendant le processus de dépôt. La chambre principale est une chambre circulaire qui protège les plaquettes des gaz et de la pression. Il prévient également la contamination extérieure et maintient l'environnement de dépôt optimal. AIXTRON Crius II comprend également une machine de transport de plaquettes, qui transporte les plaquettes à l'intérieur et à l'extérieur de la chambre. L'outil de transfert des plaquettes est équipé d'une bande transporteuse et de poussoirs qui déplacent les plaquettes à l'intérieur de la chambre. Crius II est alimenté par un actif informatique, qui contrôle la pression et la température du modèle, ainsi que le débit des réactifs et le moment du processus de dépôt. Il permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres tels que la température et la pression pour répondre à leurs exigences spécifiques. AIXTRON Crius II dispose également d'un équipement d'automatisation, qui permet aux utilisateurs de programmer les paramètres. Ce système d'automatisation contribue à réduire la complexité du processus de dépôt et à le rendre plus efficace. La conception avancée de Crius II est également conçue pour un dépôt efficace et rapide. Il est équipé d'une technologie de dépôt avancée qui garantit un dépôt précis et cohérent des films. Il supporte plusieurs technologies de dépôt et dispose d'une chambre de pré-dépôt avancée, qui prépare les plaquettes pour le dépôt. Ceci assure un dépôt chimique uniforme dans la chambre principale, conduisant à des films de haute qualité. AIXTRON Crius II a également été conçu pour être convivial. Il offre un grand écran tactile couleur, qui permet aux utilisateurs de contrôler intuitivement l'unité depuis le côté avant. Le menu à l'écran facilite le contrôle de l'unité et la mise en place des opérations de dépôt. En conclusion, Crius II est une machine CVD avancée qui fournit des films de haute qualité pour la recherche de matériaux avancés et la fabrication de dispositifs. Il est conçu pour un dépôt efficace et rapide, et son interface conviviale le rend plus facile à utiliser. Avec sa chambre de pré-dépôt avancée, sa technologie de dépôt avancée et son outil de programmation automatisé, il est un excellent choix pour le dépôt en couches minces.