Occasion AIXTRON Crius II #9270073 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur de pointe à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), combinant une technologie de procédé avancée avec une qualité supérieure, un rapport coût-efficacité et un fonctionnement multiusager. L'équipement dispose d'une interface graphique facile à utiliser, permettant aux utilisateurs expérimentés de configurer les paramètres du réacteur pour une performance optimale. Grâce à sa conception flexible de la chambre de procédé, une large gamme de matériaux en couches minces peut être déposée en un temps de dépôt court. Crius II est un système multi-chambres avec deux chambres de processus : la chambre de réaction et la chambre de substrat. La Chambre de Réaction est équipée avec une source inductivement double de 13.56 MHz pour produire du plasma rf. AIXTRON Crius II est équipé d'une source d'énergie RF indépendante permettant un contrôle précis de la puissance avec une faible ondulation et un haut niveau de répétabilité, adapté à une large gamme de processus de dépôt. Crius II est capable de générer des plasmas haute puissance et haute pression d'un certain nombre de gaz, permettant à l'utilisateur d'adapter le procédé au résultat souhaité. La Chambre Substrat est équipée d'un réchauffeur substrat, contrôlé en température par une unité de circulation externe pour le support, l'azote et l'argon. La machine est conçue pour fonctionner sur une large gamme de températures et est capable d'un chauffage uniforme jusqu'à 850 ° C AIXTRON Crius II dispose également d'un outil de refroidissement actif pour assurer des conditions optimales de processus de dépôt. Crius II comprend un module de contrôle de processus, avec un logiciel convivial pour la configuration et l'optimisation du processus de dépôt. Une gamme de paramètres de processus peut être ajustée en fonction des spécifications de l'utilisateur, tels que le niveau de puissance, la composition du gaz de procédé et le temps de traitement. AIXTRON Crius II est modulaire dans la construction, ce qui permet de modifier le matériel d'actif au besoin pour une variété d'applications de dépôt. Crius II est un réacteur polyvalent, offrant aux utilisateurs la capacité d'exploiter les avantages des procédés PECVD. Avec sa longue durée de vie, sa rentabilité et ses résultats de dépôt de haute qualité, AIXTRON Crius II est un excellent outil pour la recherche et le développement sur une variété de projets de couches minces.