Occasion AIXTRON Crius II #9272514 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un équipement de dépôt avancé conçu pour offrir des procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD) efficaces et précis pour un large éventail d'applications. Le réacteur utilise une technique de « substrat en suspension » qui permet aux utilisateurs de modifier et d'améliorer leurs capacités de dépôt de films. Cette technique permet de suspendre le matériau du substrat sur des piédestaux chauffés, ce qui permet un dépôt uniforme sur l'ensemble du substrat sans agglomération ou accumulation dans certaines zones. Crius II est capable de produire des lots de substrats avec une large gamme de tailles et de formes. AIXTRON Crius II est équipé d'un système automatisé de manipulation du substrat qui permet aux utilisateurs d'ajuster le mouvement des substrats et d'optimiser l'alignement du substrat par rapport à la source de dépôt. Ceci permet aux utilisateurs d'effectuer des variations d'épaisseur précises et contrôlables sur la surface du substrat. En outre, Crius II dispose d'une source de dépôt innovante qui utilise un procédé anodique unique de décharge d'arc pour fournir des vitesses de dépôt très précises et faire des épaisseurs de film précises. L'intérieur d'AIXTRON Crius II est doté d'une unité de refroidissement à air perfectionné qui assure une gestion efficace de la chaleur, en maintenant le processus de dépôt à des températures constantes sur l'ensemble de la chambre. En outre, la chambre dispose d'une machine d'injection de carburant à flux gazeux d'azote pour créer une atmosphère de haute pureté pour des processus de dépôt de qualité. Crius II dispose également d'un outil de diagnostic avancé utilisant un PC intégré pour surveiller, acquérir et analyser les données de l'environnement du réacteur. Cela aide les utilisateurs à réduire les coûts de maintenance ainsi qu'à améliorer la qualité du dépôt et du revêtement des substrats. AIXTRON Crius II est capable de surveiller les paramètres environnementaux, y compris la pression, la température et l'humidité, ce qui permet d'assurer des résultats de dépôt répétables et cohérents. Crius II est un actif de dépôt efficace et fiable adapté à un large éventail d'applications. Il fournit aux utilisateurs des taux de dépôt précis et des capacités uniformes de revêtement de substrat, ainsi qu'un environnement très fiable avec d'excellents systèmes de gestion de la chaleur et d'acquisition de données. En conséquence, AIXTRON Crius II est un réacteur idéal pour les procédés de dépôt de haute précision utilisés dans une variété d'industries.