Occasion AIXTRON Crius II #9272517 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur à croissance épitaxiale avancée conçu pour la production de plaquettes semi-conductrices de haute précision. Utilisant une approche innovante de dépôt à double source, cet équipement fournit une méthode très précise et fiable pour fabriquer des dispositifs hétérostructures sans défaut. Crius II utilise une chambre hexagonale à trois zones composée d'une source d'entrée, d'une zone de croissance et d'un plan de substrat. La source d'entrée combine un système d'écoulement de gaz à haut rendement avec une source d'irradiation de substrat optimisée. L'unité de débit de gaz est utilisée pour fournir un apport uniforme de molécules précurseurs dans la zone de croissance à une pression précise et contrôlée. La source d'irradiation du substrat assure que toutes les parties du substrat sont uniformément exposées aux apports composés des molécules précurseurs entrantes. La zone de croissance est équipée d'un porte-plaquettes rotatif de haute précision qui est chauffé à la température de croissance souhaitée par l'intermédiaire d'un chausson thermique soigneusement conçu. Cette température est ensuite maintenue tout au long du procédé assurant une homogénéité maximale. On maintient également le substrat à température constante en utilisant une conception à double étanchéité. Combinées, ces deux approches stampotron uniformément la composition cristalline de la molécule, initiant la croissance épitaxiale. AIXTRON Crius II utilise également une machine de surveillance informatique de pointe. Cet outil capte les données de la chambre de croissance et de l'unité de contrôle, ce qui permet aux utilisateurs de conserver une vue d'ensemble en temps réel de leur processus de production. Ces données peuvent être surveillées pour la conformité des paramètres du processus et pour alerter les opérateurs en cas d'interruption ou de panne du processus. De plus, les données peuvent être utilisées pour produire des rapports de processus et pour suivre la performance globale des actifs au fil du temps. En tirant parti des technologies de procédé avancées, Crius II fournit une méthode exceptionnellement fiable et précise pour produire des plaquettes avec des taux de défauts extrêmement bas. Ce modèle a été largement adopté pour diverses applications, allant du MEMS et des composants optoélectroniques aux nouveaux dispositifs semi-conducteurs.