Occasion AIXTRON Crius II #9272526 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur de production de pointe conçu pour le dépôt de couches minces et de revêtements. Il dispose d'une construction spéciale pour permettre un dépôt régulier et bien défini de couches minces et de revêtements sur de grandes surfaces, d'environ 2x2 cm à la taille d'une chambre pleine. Le Crius II peut être utilisé à la fois dans les procédés de fabrication par lots et pour diverses applications, telles que la microélectronique, les revêtements optiques et la recherche sur les matériaux. AIXTRON Crius II est un réacteur haute puissance et haute capacité équipé d'un générateur hyperfréquence de 2800 watts, d'un système de régulation de la température, d'un contrôle automatisé des processus et d'une interface de communication Ethernet. Il utilise deux bobines pour générer un champ hyperfréquence, chacune d'une puissance de 1400 W. Ce procédé améliore la capacité de dépôt de couches minces avec une grande conformité et uniformité. Le réacteur dispose également d'un ordinateur de bord avec écran tactile de 10 pouces. Cet affichage est utilisé pour surveiller les événements au cours du processus de dépôt et pour accéder à une variété de variables de processus telles que la température, le temps et la pression. Ce système de contrôle tactile tout-en-un permet des réglages de processus à la volée, directement depuis la station de l'opérateur. La puissance maximale transmise par Crius II est de 2800 watts mais sa puissance peut être ajustée pour répondre aux besoins de projets spécifiques de dépôt en couches minces. Ce niveau de flexibilité le rend idéal pour le dépôt de couches minces sur une large gamme de substrats tels que le silicium, le verre et les métaux. AIXTRON Crius II est un réacteur très efficace qui permet à l'utilisateur d'atteindre des taux de dépôt jusqu'à 2,5 à 3 fois plus élevés que les autres réacteurs de production. Il bénéficie également d'une meilleure uniformité de dépôt grâce à sa configuration avancée de source de lampe unique, permettant une répartition uniforme de la chaleur générée sur l'ensemble de la chambre. Ceci rend également Crius II idéal pour les processus de dépôt rapide, tels que ceux impliquant des temps de cycle courts. Le réacteur AIXTRON Crius II offre une large gamme de caractéristiques et convient à une variété d'applications et de procédés de dépôt. Avec ses caractéristiques avancées et son design efficace, Crius II supporte un processus de production de revêtement plus rapide et plus facile, ce qui en fait un choix idéal pour les laboratoires de développement.