Occasion AIXTRON Crius II #9272528 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) enrichi en courant continu/RF conçu pour la production de matériaux semi-conducteurs cristallins de haute qualité. Il est équipé de sources DC/RF de pointe, de dimensions de chambre et d'un contrôle avancé des procédés, ce qui lui permet de fournir les normes les plus élevées de qualité des matériaux. Crius II fait partie de la série AIXTRON de réacteurs épitaxiaux dédiés, conçus pour fournir une qualité épitaxiale à une variété de semi-conducteurs. Doté de courant continu (DC) entre la source et le substrat pendant le dépôt, AIXTRON Crius II est capable de produire les couches les plus pures de semi-conducteurs de haute pureté. De plus, les sources de fréquence de résonance (RF), alimentées par des générateurs RF, améliorent la structure et la composition des couches, permettant un contrôle précis de leurs propriétés. Crius II est équipé d'une grande configuration source/substrat, avec une zone de rotation de grande capacité pour les grandes configurations source/substrat, pour assurer des couches de dépôt uniformes et des rendements élevés. Ce système est complété par un système de contrôle de processus embarqué, permettant à l'utilisateur de contrôler avec précision les paramètres de croissance, y compris la vitesse de dépôt, la répartition de la température et la concentration en oxygène. Afin d'augmenter encore la qualité des cristaux épitaxiés, AIXTRON Crius II présente une configuration à deux sources, deux substrats, permettant le dépôt de sources multiples simultanément. Cela permet de contrôler avec précision les largeurs de dépôt zone par zone, en optimisant la qualité des matériaux et l'orientation des cristaux. Crius II est capable de fonctionner à des températures allant jusqu'à 1350 ° C, avec un temps de cycle aussi bas que 15 minutes. Associé au contrôle précis des procédés proposé par AIXTRON Crius II, il constitue un choix idéal pour un dépôt épitaxial précis, rapide et de haute qualité. En outre, AIXTRON cloud computing interface permet la surveillance et le contrôle à distance du réacteur. Dans l'ensemble, Crius II est un réacteur CVD haute performance, offrant un contrôle précis de la qualité des matériaux à travers des sources DC/RF et un système de contrôle de processus embarqué, couplé avec la vitesse élevée et les temps de cycle rapide d'une configuration à deux sources et deux substrats. C'est un choix idéal pour la production de matériau semi-conducteur cristallin, ce qui en fait le choix idéal pour des processus de production rapides et de haute qualité.