Occasion AIXTRON Crius II #9375373 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur de nouvelle génération à dépôt chimique en phase vapeur souple (CVD). Il est conçu pour le dépôt de couches minces de haute qualité dans un large éventail d'applications. Le système est équipé de fonctionnalités uniques pour intégrer et utiliser la puissance d'AIXTRON Digital Process Control (DPC) pour un contrôle précis des processus. Le réacteur Crius II utilise les systèmes de filtration en attente de brevet et la combinaison électronique de la technologie de source AIXTRON Inverse Magnetron pour surveiller la température du procédé et la vitesse de dépôt. AIXTRON Crius II peut être utilisé pour le dépôt de tous types de films pour des applications telles que le MEMS, les cristaux photoniques, les semi-conducteurs optoélectroniques III-V, l'affichage à écran plat et les technologies de cellules solaires, entre autres. Le réacteur Crius II est conçu avec un système Intelligent Process Control (IPC), qui est alimenté par un contrôleur avec les derniers algorithmes de surveillance et de contrôle des processus. Cette CIB est équipée d'une option unique d'acquisition de données en plusieurs points, conçue pour surveiller l'état de développement complet de la couche mince pendant le processus de dépôt. Il en résulte des films de meilleure qualité avec une meilleure uniformité, contrôlabilité et répétabilité. Le contrôleur peut également être utilisé pour optimiser le processus de dépôt, en éliminant la nécessité d'un contrôle manuel. Le réacteur AIXTRON Crius II est capable d'effectuer des dépôts sensibles à la température et à la pression et est équipé d'un système de refroidissement unique (AirFlex) pour garantir une grande précision et une haute contrôlabilité de la température et de la pression. Crius II permet vraiment une large gamme d'applications en raison de sa grande polyvalence. AIXTRON Crius II est un réacteur noble et avancé dérivé de la série de produits CVD AIXTRON Crius qui en a fait un fournisseur leader de solutions de dépôt pour des applications industrielles. Crius II est compatible avec une gamme de technologies sources AIXTRON telles que les cellules Schottky, Langmuir-Blodgett, les dépôts chimiques en phase vapeur à chaud (HW-CVD), et Nwashington WELL. AIXTRON Crius II est le réacteur ultime pour les dépôts CVD avancés. Ses caractéristiques permettent de réaliser des couches minces de haut niveau avec des détails plus fins et des temps de cycle plus rapides par rapport aux méthodes de dépôt classiques. Avec Crius II, l'excellence des utilisateurs est garantie en termes de productivité, de qualité et d'économies significatives.