Occasion AIXTRON Crius II #9395952 à vendre en France

AIXTRON Crius II est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (CVD) qui a été spécialement conçu pour être très polyvalent et rentable. Il s'adresse aux fabricants avancés de dispositifs semi-conducteurs pour produire rapidement et avec précision des films minces de haute qualité avec une excellente uniformité. Le réacteur est entièrement automatisé, ce qui le rend facile à utiliser. Il utilise un réseau unique de distribution de sources, qui permet un positionnement optimal de la source, assurant que toute la surface de croissance est alimentée également en matériaux de source. La grande plage de température le rend adapté à une variété d'applications. Crius II est construit en aluminium massif et en acier inoxydable, scellé par des joints et des surfaces d'appui. Cela le rend très fiable et durable, et aide à minimiser les problèmes de casse. Il dispose également d'une surveillance thermique active et d'une conductivité thermique élevée, permettant aux utilisateurs d'avoir un contrôle complet de la température et de la pression. AIXTRON Crius II dispose d'un système automatisé d'alimentation de la chambre et de distribution des sources qui assure un flux massique homogène à l'intérieur de la chambre de réaction. Une pompe à rugosité intégrée couplée à une pompe à membrane permet de garder l'intérieur de la chambre propre et exempt de particules et de polluants. Ceci est essentiel pour maintenir des films de haute qualité et obtenir une uniformité. En outre, Crius II comprend également un régulateur de débit massique de fils chauds et un port de jauge de vide. Le régulateur de débit massique de fil chaud permet de mesurer avec précision les débits de réactifs et de contrôler plus facilement le processus de dépôt. L'orifice permet la détection rapide du vide à l'intérieur de la chambre de réaction. AIXTRON Crius II contient également plusieurs dispositifs de sécurité tels qu'un système de protection contre les surpressions, une fonction d'arrêt automatique et une soupape d'évacuation d'urgence. En conclusion, Crius II est un réacteur CVD avancé qui est idéal pour la production de films minces de haute qualité avec uniformité et excellente reproductibilité. Sa construction fiable et durable, ses fonctions automatisées, son système de surveillance de la chaleur active, ses caractéristiques de sécurité robustes et sa gamme de températures élevées le rendent d'autant plus attrayant pour les fabricants avancés de dispositifs semi-conducteurs.