Occasion AIXTRON Crius II #9402490 à vendre en France

Le réacteur AIXTRON Crius II est un outil de dépôt de table de haute précision utilisé pour les dépôts de couche atomique (ALD) et les dépôts chimiques en phase vapeur (CVD). Il est principalement utilisé pour des applications de dépôt en couches minces. Il est conçu pour la formation fiable, précise et répétable d'une variété de couches d'interface critiques et de couches minces dans un large éventail de technologies telles que la microélectronique, l'optoélectronique, le stockage magnétique, le stockage d'énergie et biomédical. Crius II est un système entièrement automatisé qui offre un contrôle précis et reproductible des processus. AIXTRON Crius II est basé sur une conception modulaire éprouvée sur le terrain qui permet une intégration facile de différents modules de dépôt. Il comprend également un large éventail de caractéristiques avancées telles que la rotation de l'échantillon et le support horizontal du substrat, la pré-évaporation et le chauffage de l'échantillon, un obturateur motorisé et des options de co-dépôt de sources en même temps pour des processus complexes de dépôt de couche. Le module de dépôt de Crius II est équipé d'un support de source Moseley qui permet des configurations de source de substrat unique ou multiple et un co-dépôt de précurseurs ou de réactifs multiples par la source. Le support de source de Moseley est conçu avec un mouvement de basculement qui contribue à l'uniformité du dépôt et à l'homogénéité du film. AIXTRON Crius II comprend également un chauffe-échantillons de haute précision, un obturateur et un obturateur chauffant. Le chauffe-échantillons est scellé sous vide, conception à fond de cavité. Il permet un contrôle rapide de la température de l'échantillon et des températures précises et répétables. L'obturateur chauffé permet un dépôt simultané et un co-dépôt sans champ et un contrôle de la température pour l'évaporation latérale du substrat. Crius II est un outil puissant pour le dépôt de couches minces nanolayées. Il permet des revêtements précis et reproductibles, aboutissant à des structures validées expérimentalement avec des frontières de phase et d'interface déterminées avec précision. AIXTRON Crius II est capable d'accorder des paramètres de grande envergure pour un contrôle optimal du processus pour une variété de processus de dépôt. C'est un outil puissant et exhaustif pour la recherche, le développement et la production.