Occasion AIXTRON Crius-R #293667918 à vendre en France

AIXTRON Crius-R est un réacteur épitaxié avancé conçu par la société allemande de fabrication d'équipements AIXTRON. Ce réacteur épitaxié de pointe est idéal pour des applications nécessitant des épaisseurs de couches très précises et un contrôle de qualité pour les plaquettes semi-conductrices III-V et Indium Phosphide avancées. Le réacteur Crius-R a été développé comme un outil avancé et rentable pour permettre un large éventail de processus de croissance, tels que la croissance en plusieurs étapes et des recettes personnalisables. Le réacteur AIXTRON Crius-R est doté de la technologie éprouvée AIXTRON Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), qui assure un dépôt uniforme sur une grande surface avec une épaisseur et une qualité exceptionnelles. Grâce à la technologie d'ablation des lasers à impulsions ultra-courtes, le réacteur Crius-R compense la répartition non uniforme des métaux sur de grandes surfaces de substrat, permettant un contrôle précis du déroulement du processus de croissance. En plus de ses capacités remarquables de croissance de couches, le réacteur AIXTRON Crius-R offre également un contrôle de qualité supérieur, assurant une production à haut rendement. Ses diagnostics avancés comprennent un moniteur de pression avancé, qui surveille la pression de l'atmosphère ambiante, sans la nécessité d'une intervention humaine. Le système d'imagerie thermique fournit également des retours sur les conditions de croissance vues en temps réel. Ensemble, ces fonctionnalités garantissent la plus haute qualité possible pour les applications. Le réacteur Crius-R propose une large gamme de recettes de procédé adaptées à des applications variées et peut être adapté à un large éventail de besoins des clients, que ce soit pour la production ou la recherche et le développement. Il est également facile à utiliser et à entretenir, et offre des fonctionnalités d'automatisation supérieures, telles que le balayage par code-barres des plaquettes de test, la rotation automatique des substrats et le dépôt contrôlé des couches requises. Dans l'ensemble, AIXTRON Crius-R est un réacteur épitaxié avancé et économique qui offre un contrôle et une précision supérieurs des processus de croissance des couches. Il a une large gamme de caractéristiques et d'avantages qui en font un choix idéal pour une variété d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs.