Occasion AIXTRON Crius-R #9260376 à vendre en France
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ID: 9260376
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
MOCVD System, 12"
2012 vintage.
AIXTRON Crius-R est un type de réacteur épitaxié conçu et développé par AIXTRON pour la production de semi-conducteurs composés de haute pureté. Ces semi-conducteurs comprennent divers arséniures de gallium (GaAs), de phosphure d'indium (InP) et d'aluminium (AlGaAs). Le réacteur permet une large gamme de paramètres de croissance et est conçu pour des applications à l'échelle de la production et de la recherche. Le réacteur épitaxial Crius-R n'utilise pas de suscepteur interne, ce qui le rend mieux adapté à la production de couches épitaxiales de haute qualité. Il ne nécessite pas non plus de temps de réchauffement ou de refroidissement avant et après le processus de croissance, permettant un débit élevé pour de grandes quantités de production. En outre, grâce à la conception efficace du réacteur, il offre un haut degré de répétabilité et de reproductibilité des procédés. Le réacteur épitaxial AIXTRON Crius-R est équipé d'un capteur unique de microbalance à cristaux de quartz (QCM) qui permet de détecter les couches épitaxiales. Cette détection de fin améliorée permet un meilleur contrôle du processus de croissance, augmentant la qualité des couches cultivées. Le Crius-R possède également des entrées de gaz innovantes et un contrôle indépendant, qui sont essentiels pour produire la couche épitaxiale désirée. De plus, le réacteur offre un module de refroidissement intégré, qui réduit considérablement la température de croissance et améliore sensiblement la durée de vie des substrats. Le réacteur épitaxial AIXTRON Crius-R dispose d'un certain nombre de dispositifs de sécurité intégrés pour réduire le risque de situations dangereuses pendant l'exploitation. Le réacteur comprend également divers diagnostics pour surveiller le processus de croissance afin d'assurer des résultats de haute qualité. En conclusion, le réacteur épitaxial Crius-R est conçu pour des applications à l'échelle de la production et de la recherche, fournissant aux chercheurs et aux ingénieurs un outil efficace et fiable pour le développement et la fabrication de semi-conducteurs composés de haute pureté. Ses caractéristiques de sécurité intégrées et son capteur QC offrent un contrôle maximal sur le processus épitaxial et permettent un haut niveau de répétabilité et de reproductibilité.
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