Occasion AIXTRON Crius #9184894 à vendre en France

AIXTRON Crius est un réacteur de pointe conçu pour la recherche et la production dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'une solution de production complète offrant une interface entre le MBE et d'autres systèmes de dépôt/gravure en couches minces. Le réacteur Crius se compose de trois composants principaux : une chambre de croissance, une chambre de source MBE et une chambre à vide. La chambre de croissance est la zone de formation du dépôt ou de la gravure. Il contient plusieurs composants, dont un suscepteur, une plaque d'étirage, des porte-plaquettes et d'autres composants nécessaires au contrôle du processus de dépôt ou de gravure. La chambre source de MBE est l'endroit où le gaz qui doit être utilisé pour le processus d'épitaxie est délivré. La chambre à vide est utilisée pour maintenir une atmosphère basse pression dans la chambre de croissance. Le réacteur AIXTRON Crius est capable d'une large gamme de températures de procédé, allant de 167 ° C à 1000 ° C, et peut accueillir des substrats jusqu'à 200mm de diamètre avec une surface de croissance allant jusqu'à 25 mm2. Crius utilise des commandes informatisées pour automatiser le processus, ce qui permet à l'utilisateur d'introduire et d'ajuster des paramètres et des paramètres précis. L'environnement de croissance est surveillé et contrôlé par le système, avec des caractéristiques telles qu'un arrêt automatique si la température ou les niveaux de pression augmentent trop. Les réacteurs AIXTRON Crius utilisent un système de chauffage indirect, connu pour fournir des densités de sources ternaires, quaternaires et supérieures, permettant la croissance de matériaux complexes sur une seule plaquette. Il dispose également d'un chargeur informatisé, qui permet de charger des plaquettes plus minces sans toucher le substrat ou le porte-substrat. Le réacteur est équipé de dispositifs de sécurité pour prévenir l'exposition accidentelle du personnel. Dans l'ensemble, le réacteur Crius est une solution idéale pour les applications de recherche et de production dans l'industrie des semi-conducteurs, offrant des capacités de dépôt et de gravure en couches minces de haute qualité avec un niveau élevé d'automatisation et de contrôle.