Occasion AIXTRON Crius #9184896 à vendre en France

AIXTRON Crius est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur à haute température (HTCVD) développé et fabriqué par AIXTRON. Le réacteur Crius est conçu pour la production de couches minces de grande surface et de dispositifs nanostructurés utilisant une variété de procédés de dépôt de haute qualité. Le réacteur est équipé d'une chambre à quartz de type top-chapeau entièrement transmissive, permettant un accès facile au substrat ou à l'échantillon. AIXTRON Crius est idéal pour les applications de recherche et développement telles que les diodes électroluminescentes organiques (OLED) et les cellules solaires à couches minces. Crius est un réacteur fiable et efficace qui fonctionne à des températures allant jusqu'à 400 ° C Il est équipé d'un système d'allumage multipoint breveté AIXTRON qui permet un démarrage rapide et un processus de nettoyage et d'entretien simplifié. Le réacteur est également conçu pour fonctionner avec le logiciel de contrôle de processus avancé AIXTRON, qui permet un réglage rapide et précis des paramètres de processus. AIXTRON Crius dispose d'un système de chargement et de déchargement entièrement automatisé permettant de déplacer les substrats dans et hors de la chambre en quelques minutes. Le générateur RF intégré permet de fournir facilement des niveaux de puissance élevés pour obtenir des résultats uniformes et efficaces. Le réacteur Crius est enrichi d'une chambre de distillation et d'une grille de susceptomètre, permettant une analyse rapide des propriétés chimiques et physiques de différents matériaux. En outre, le réacteur AIXTRON Crius est compatible avec les systèmes avancés de distribution de gaz AIXTRON, permettant une manipulation facile et sûre des gaz réactifs. Crius offre des cadences de production à grande vitesse jusqu'à 400 wafers par heure, ce qui en fait la solution idéale pour les opérations de production de masse. Le réacteur est facile à intégrer dans la chaîne de production existante, avec des exigences minimales d'installation et de maintenance. Le réacteur est conçu pour répondre à un large éventail d'exigences de procédé, et peut être utilisé pour des procédés de dépôt à base de silane, de siloxane et de chimie halogène. En outre, AIXTRON Crius est équipé d'un certain nombre de dispositifs de sécurité, dont des détecteurs de gaz, des détecteurs d'incendie, une protection contre les surpressions et des conduites d'alimentation en gaz de procédé isolées. En résumé, Crius est un réacteur HTCVD très polyvalent qui donne des résultats précis et reproductibles. Équipé de systèmes automatisés de chargement et de déchargement, de dispositifs de sécurité et de logiciels de contrôle des processus, il est le choix idéal pour la production industrielle à grande échelle de films minces de haute qualité et d'appareils nanostructurés.