Occasion AIXTRON Crius #9222205 à vendre en France

AIXTRON Crius est un système avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Il est spécifiquement conçu pour soutenir un large éventail d'applications dans le développement et la production de produits optiques, électroniques et médicaux. Il est très polyvalent et peut fonctionner avec un large éventail de substrats tels que le verre, les plastiques, les métaux et la céramique. Le réacteur Crius utilise une source de plasma à couplage inductif (PIC) avancée et innovante pour créer efficacement une décharge à haute densité. Cette décharge permet un contrôle précis de la composition du film, des paramètres du processus de dépôt et de l'homogénéité du film. La composante PCI du réacteur combine des densités de puissance élevées avec une fonction « démarrage doux », qui minimise la poussière et la contamination pendant le fonctionnement. Le réacteur dispose également d'une chambre à « paroi froide » contrôlée par la température, qui contribue à réduire le bruit et à obtenir des conditions uniformes de dépôt de film. Le réacteur AIXTRON Crius peut être utilisé pour déposer une large gamme de couches minces, y compris celles contenant des nitrures, des oxydes, des métaux et des matériaux plus exotiques tels que des nanotubes de carbone et du graphène. Il est capable de déposer ces matériaux dans une large gamme d'épaisseurs et offre une excellente homogénéité et répétabilité. Il utilise également une technologie avancée de contrôle des recettes, automatisant l'ensemble du processus de dépôt et éliminant la nécessité d'une intervention manuelle. Le réacteur Crius est adapté aux procédés de dépôt en couches minces utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs ainsi que pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques. Sa conception polyvalente et sa capacité à créer des films minces de haute qualité en font un choix attrayant pour les applications industrielles et de recherche. Il est bien adapté à la fois pour la production industrielle de prototypes et à grande échelle, et il dispose d'une variété de caractéristiques qui le rendent facile à installer, à entretenir et à gérer. Dans l'ensemble, AIXTRON Crius est un réacteur exceptionnel capable de créer des films uniformes de haute qualité pour un large éventail d'applications. Sa source de plasma PIC avancée permet un contrôle précis du processus de dépôt, tandis que sa chambre « à paroi froide » contribue à réduire le bruit. Ses fonctionnalités conviviales, telles que les capacités de contrôle automatisé des recettes, en font un excellent choix pour la production industrielle ou les applications de recherche.