Occasion AIXTRON G3 2600 #9150530 à vendre en France
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Vendu
ID: 9150530
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 2007
MOCVD Systems, 4"
LED for GaN
Heating type: RF Induction heater
Epi-tune: In-situ reflectance spectra
Software OS: Window
Gas system:
Gas type: VCR Type
MFC: Bronhost / N2 / H2 / HCL / SiH4 / NH3
Carrier gas:
H2 (Total flow : 70 l/min)
N2 (Total flow : 70 l/min)
MO-Source: TMGa, TEGa, Cp2Mg, TMIn, TMAl, UDMH, CBr4, DTBSI
Vacuum system:
Process pump: EBARA ESA25D Dry pump
Filter: Exhaust gas filter with chiller
Pressure control: MKS651 Controller
Throttle V/V
Utility:
Voltage:
System: 208V AC, 3 Phase
Heater: 380V AC, 3 Phase
Cooling system:
Cooling liquid: Water
Max.inlet pressure: <6 bar
Differential pressure: >4 bar
Inlet temperature: <25℃
Outlet temperature: <65℃
Included:
GMS Cabinet
Reactor cabinet
Exhaust and chamber
Scrubber
RF Generator
Particle filter
Pump
Power:
System: 25KVA
Heater: 144KVA
208 V, 3 Ph, 50/60 Hz
Currently de-installed and warehoused
2007 vintage.
AIXTRON G3 2600 est un réacteur spécialement conçu pour la fabrication de matériaux avancés. C'est l'un des réacteurs les plus puissants actuellement sur le marché, offrant une combinaison de haute puissance, polyvalence et performance de précision. G3 2600 a une chambre de 300 mm avec la capacité de fournir une température contrôlable et uniforme pour produire un résultat optimal du processus. Il est capable de traiter un large éventail de matériaux tels que le silicium, l'indium, l'aluminium-gallium-arsenide (AlGaAs), le silicium-germanium (SiGe) et le nitrure de gallium (GaN). Il a également la capacité d'évaporer les matériaux pour l'oxydation et le dépôt, tout en fournissant une gamme dynamique de paramètres de processus optimisés pour l'application. AIXTRON G3 2600 est équipé d'une gamme de fonctionnalités avancées qui le rend idéal pour une variété d'applications. Sa conception innovante permet une homogénéité supérieure des films conformes et un dopage uniforme des couches minces homogènes, tandis que sa source de gaz à faible budget thermique permet un dépôt d'oxyde à des niveaux élevés de planéité par rapport aux techniques de dépôt traditionnelles. En outre, son budget thermique réglable permet également une large gamme de contraintes de film pour les structures monocouches et multicouches. Le réacteur G3 2600 offre également une meilleure automatisation et surveillance des processus grâce à un logiciel de contrôle des lots avancé avec inversion des processus. Ce logiciel facilite les protocoles de processus pré-programmés et permet à l'opérateur d'optimiser ses paramètres système rapidement et facilement. En outre, AIXTRON G3 2600 est conçu pour répondre à toutes les réglementations environnementales et de prévention des incidents, tandis que les emboîtements automatiques de la chambre de processus arrêteront immédiatement le processus en cas de danger potentiel. De plus, des caractéristiques telles que le gazéification RF et le mélange de ferrite permettent également de réduire/éliminer la contamination des films, et sa géométrie étanche assure un environnement de traitement hermétique. Avec sa vaste gamme de caractéristiques, le G3 2600 est un réacteur idéal pour une large gamme de recherches et d'applications industrielles. Il offre un contrôle précis pour la production de matériaux avancés et est fiable, efficace et polyvalent, ce qui en fait un excellent choix pour toute application de matériaux avancés.
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