Occasion AIXTRON G3 #293602405 à vendre en France

AIXTRON G3 est un outil de dépôt à haut volume utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet outil utilise un riche ensemble de fonctionnalités qui permet d'obtenir des résultats de très haute qualité. C'est le premier outil tout-en-un combinant dépôt électrostatique et chimique en phase vapeur (CVD), selon la classe de réacteur. Grâce à sa capacité à effectuer des dépôts métalliques et diélectriques, l'outil peut être utilisé pour construire des couches métalliques et diélectriques pour différentes structures de dispositifs. Il s'agit d'un réacteur à trois chambres de faible stabilité thermique. Ses chambres sont conçues pour des applications indépendantes de dépôt à haute chaleur, intégrant une tête de douche à gaz offrant un faible impact thermique. Ceci exclut la nécessité d'une chambre séparée dédiée à la prévention thermique. AIXTRON G 3 dispose d'un système de régulation de température multi-zones très efficace et d'un contrôle de processus de haute précision. Ceci permet une excellente homogénéité et répétabilité de la température du substrat. Le réacteur utilise trois sources de dépôt distinctes sous forme de cellules d'effusion (MOCVD/MOTE) dédiées au dépôt métallique, et deux sources de liquide ou de gaz dédiées au dépôt diélectrique. Ces sources sont enfermées dans une chambre étanche au vide, et permettent un contrôle exact des débits de dépôt par un chronométrage précis de l'alimentation en énergie et en gaz. G3 dispose d'une chambre de réaction à réponse rapide dans laquelle les températures peuvent être ajustées en quelques secondes. Cette fonctionnalité permet d'accélérer le temps de traitement, tout en conservant une excellente uniformité. En outre, les fréquences des sources radiofréquences peuvent être ajustées afin d'optimiser encore le procédé. G3 permet de déposer jusqu'à trois couches de film avec une configuration unique, dans le traitement à la fois simple et multi-plaquettes. On obtient ainsi un débit plus élevé qu'avec de nombreux autres outils de dépôt. L'architecture robuste de l'outil permet également une large gamme de températures de processus ainsi qu'un contrôle de polarisation RF. Dans l'ensemble, AIXTRON G3 est un outil de dépôt polyvalent et performant pour obtenir d'excellents résultats dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ses capacités de contrôle multidimensionnelles, ses vitesses de dépôt rapides et sa capacité à déposer différentes couches dans une même installation en font un excellent choix pour un large éventail d'applications.