Occasion AIXTRON G3 #9040737 à vendre en France

AIXTRON G3 est un réacteur de gravure ionique réactive (RIE) conçu par AIXTRON pour des besoins de gravure spécialisés et de haute précision dans un large éventail d'industries. Il est entièrement capable de manipuler les processus de gravure sèche et humide et est compatible avec divers gaz utilisés dans une variété de processus de gravure chimique et physique. AIXTRON G 3 dispose d'une grande chambre de 20 "x 20" avec un jeu de hauteur jusqu'à 12 "et est conçu pour produire des profils de gravure avec des rapports d'aspect élevés et une haute résolution de caractéristiques. Il comprend un bocal à quartz standard qui est conçu avec une géométrie de gravure avancée et des paramètres de processus hautement optimisés. G3 utilise la technologie ICP source pour générer des débits avancés de décharge et de gravure de plasma. Cette technologie est associée à une alimentation en courant continu variable pour produire des taux de gravure plus élevés et une meilleure uniformité. La chambre dispose également d'un biais inverse réglable pour améliorer la sélectivité de gravure et l'isolation pour des structures parfaitement gravées avec un minimum de dommages de surface. G 3 dispose d'un ensemble complet d'éléments de surveillance et de contrôle du processus, y compris le contrôle de pression, les capteurs de température, le contrôle automatisé du cycle de purge et le contrôle du temps de gravure. Le contrôleur de bord est conçu avec des commandes intégrées de matériel et de logiciel, ainsi qu'un passage sous vide pour des connexions faciles aux systèmes externes. Le système dispose également d'une auto-intensification pour permettre au taux de gravure de rester optimisé pendant les longs cycles de gravure. AIXTRON G3 est conçu pour être une solution de gravure tout-en-un qui peut être utilisée dans un certain nombre de paramètres de R-D, de production et industriels. Ce système est conçu pour être facile à utiliser et extrêmement fiable, et a été prouvé pour graver une large gamme de matériaux, y compris le silicium polycristallin, l'oxyde de silicium, le métal, et d'autres matériaux communs. En outre, le système a été conçu pour graver ces matériaux de façon sûre et efficace avec une grande vitesse et un excellent débit, même dans des processus qui nécessitent un rapport d'aspect élevé, une résolution d'aspect élevée ou des taux de gravure faibles.