Occasion AIXTRON G4-TM #293636228 à vendre en France

AIXTRON G4-TM est un réacteur de quatrième génération conçu et fabriqué par AIXTRON pour le dépôt industriel de couches minces pour des matériaux tels que les couches minces amorphes, polycristallines et microcristallines. AIXTRON G 4 TM est un réacteur de pointe doté d'un capteur de puissance d'arrêt in situ unique qui ajuste la puissance fournie à la cible en temps réel. Cela garantit un contrôle précis et fiable du procédé tout au long du processus de dépôt. Le réacteur est conçu pour assurer un dépôt en couches minces polyvalent et à haut débit au niveau des procédés industriels. Il offre une large gamme de tailles de substrat, uniformité des matériaux et des vitesses de dépôt, ainsi qu'une excellente uniformité des caractéristiques des couches minces telles que la composition, les propriétés optiques et électriques. Sa conception compacte et ses excellentes fonctions de contrôle permettent un dépôt à haut débit et rentable dans la production de couches minces. G4-TM offre plusieurs fonctionnalités avancées qui en font un choix idéal pour le dépôt en couches minces. Il s'agit notamment d'un système de surveillance de l'énergie permettant de suivre et de surveiller l'énergie de dépôt, permettant d'uniformiser les paramètres des couches minces et d'éviter les défauts tels que les bords coupés, le pelage, les fissures et la décoloration. Utilisation d'une pression de dépôt plus élevée pour accélérer le dépôt et améliorer l'uniformité. Amélioration de l'automatisation pour réduire les coûts de main-d'œuvre et de consommation, ainsi que les coûts d'entretien par rapport aux autres réacteurs. Le réacteur est alimenté par un générateur RF de forte puissance spécialement conçu pour les dépôts G4 TM. Ce générateur fournit une puissance précise et uniforme pour 200 à 1000 watts - permettant des dépôts en couches minces de divers matériaux et alliages avec différents modes de fonctionnement. AIXTRON G4-TM offre un excellent contrôle des processus, des paramètres personnalisables et un fonctionnement automatisé. Le capteur de puissance d'arrêt in situ est capable de régler automatiquement la puissance cible pour garantir un dépôt précis, fiable et rentable tout au long du processus. Son temps de réaction court et sa grande précision garantissent des résultats de dépôt répétables en couches minces et une excellente uniformité impossible à réaliser avec d'autres systèmes de dépôt. En outre, le réacteur AIXTRON G 4 TM est conçu pour être flexible et facile à intégrer dans les systèmes d'usine. Il est disponible à la fois en chambre simple et en chambre double pour répondre à des besoins d'application différents. Le système est compatible avec divers gaz, matériaux et matériels pour un processus de dépôt plus efficace. Dans l'ensemble, G4-TM est un réacteur industriel avancé de dépôt de couches minces qui offre une meilleure uniformité, répétabilité des procédés et rentabilité. Avec ses caractéristiques avancées et ses configurations polyvalentes, il peut être utilisé pour produire une grande variété de couches minces qui répondent aux normes de qualité les plus élevées.