Occasion AIXTRON G4 #293652203 à vendre en France

AIXTRON G4 est un réacteur Reactive Ion Etch (RIE) à couplage inductif, linéaire, à ondes continues et rempli de gaz utilisé pour les processus de gravure et de dépôt dans les industries de la nanotechnologie et de la fabrication de semi-conducteurs. C'est une source de performances, de fiabilité et de contrôle de processus sans précédent. AIXTRON G 4 a une conception de chambre robuste et fiable avec un système innovant de gestion du gaz pour améliorer l'uniformité du débit de gaz, assurer un impact minimal sur le substrat et réduire l'entretien de la chambre. La chambre est équipée de recettes de processus avancées, entièrement automatisées pour une gamme de dépôts extrêmement large et l'uniformité. Il offre également une large gamme de capacités de procédé telles que la gravure ionique réactive (RIE), le dépôt par couche atomique (ALD), l'évaporation par faisceau d'électrons et le dépôt par pulvérisation. G4 est capable de produire des caractéristiques de haute qualité et de tolérance extrêmement serrée en moins de 1 micron. La capacité basse pression permet une gravure plus rapide, tandis que la pression de la chambre peut être préréglée pour atteindre des vitesses de gravure optimales. Son refroidissement uniforme assure une température régulière et stable. Les alimentations sont modulaires, ce qui facilite la maintenance et la mise à niveau des capacités de gravure et de dépôt. La vitesse de montée en puissance plus rapide des alimentations permet un meilleur contrôle et une meilleure précision des processus de gravure et de dépôt. En outre, G4 est équipé d'un système d'émission optique qui permet de mesurer avec précision la pression du procédé et la température de la chambre, améliorant le contrôle du procédé et l'efficacité énergétique. AIXTRON G4 est conçu pour le traitement en petites et grandes surfaces d'échantillons de divers substrats. Le système intègre également une large gamme de composants utilisés pour le vide, le gaz, le chauffage et le contrôle du plasma. Cette puissante combinaison de fonctionnalités permet une fiabilité et un contrôle de processus inégalés, garantissant un débit et une répétabilité élevés. Dans l'ensemble, AIXTRON G 4 est un excellent choix pour une large gamme de procédés de gravure et de dépôt et fournit un meilleur contrôle des procédés, uniformité et débit dans les opérations de fabrication de semi-conducteurs et d'autres nanotechnologies. C'est un outil puissant et fiable pour réduire les temps de cycle et améliorer les processus de gravure et de dépôt.