Occasion AIXTRON G4 #9206743 à vendre en France

AIXTRON G4 est un réacteur vertical à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la croissance épitaxiale de matériaux à couches minces. La mise en place d'un processus CVD fiable, répétable et contrôlable est facilitée par la plateforme unique d'optimisation des processus. Fiable par de nombreux laboratoires de recherche et centres industriels de premier plan dans le monde entier, il offre la plus grande précision et donne les meilleures performances. Le réacteur AIXTRON G 4 a une conception verticale mince, ce qui permet un grand espace de croissance et un équilibre optimal de la température de surface. La chambre du réacteur est fortement isolée pour éviter le rayonnement thermique, assurant ainsi une répartition complète et uniforme de la température au niveau des substrats. Il peut en résulter une structure de couche homogène et une qualité de couche améliorée. G4 a une large gamme de caractéristiques qui visent à maximiser l'uniformité et la répétabilité. Par exemple, il dispose d'un système de débit de gaz raffiné, qui aide à maintenir un transport de masse uniforme dans la chambre de dépôt. Il possède également des paramètres de processus configurables, tels que la vitesse de chauffage et la température de dépôt, qui peuvent être réglés avec précision. En outre, G4 est équipé d'une excellente étanchéité au vide, assurant un processus de croissance du film propre et efficace. AIXTRON G4 est également un outil puissant pour la recherche et le développement. Il offre la précision et la flexibilité nécessaires pour modifier et analyser les paramètres de traitement, tels que la composition du gaz, la température du substrat, la vitesse de traitement, la pression d'application et plus encore. Cela permet d'ajuster et d'optimiser rapidement les processus et les matériaux. Cela, à son tour, stimule la créativité et contribue à accélérer le développement de nouvelles technologies de processus et de matériaux. AIXTRON G 4 présente des caractéristiques de dépôt exceptionnelles qui peuvent conduire à des dépôts extrêmement uniformes et répétables. La structure uniforme de la couche, ainsi que les paramètres réglables du processus, permettent une grande flexibilité dans la production. Cela facilite le développement de structures hautement optimisées pour une large gamme de propriétés optoélectroniques, fonctionnelles et structurelles. Dans l'ensemble, le G4 est un système puissant et convivial pour les dépôts de CVD uniformes, reproductibles et reproductibles. Sa précision et sa flexibilité, associées à la capacité d'analyser avec précision les paramètres du processus, en font un outil inestimable pour tout chercheur ou ingénieur cherchant à obtenir des résultats reproductibles. Le design robuste et les performances précises de G 4 lui ont valu une place parmi les systèmes CVD les plus recherchés au monde.