Occasion AIXTRON G4 #9222127 à vendre en France

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AIXTRON G4
Vendu
Fabricant
AIXTRON
Modèle
G4
ID: 9222127
Style Vintage: 2011
Metal organic chemical deposition systems (MOCVD) 2011 vintage.
AIXTRON G4 est un équipement de réacteur révolutionnaire conçu pour la production de matériaux contenant du silicium. Il offre des performances supérieures, permettant la production de matériaux en couches minces avancés et de nanostructures à grande échelle. Il est doté de la technologie dopante la plus récente pour améliorer la croissance de nombreux matériaux, y compris la capacité d'incorporer des éléments tels que l'aluminium, le gallium et l'arsenic (AlGaAs). Le système du réacteur est composé d'une chambre de procédé, d'un générateur RF, d'une unité de distribution de gaz et d'une machine de surveillance intégrée des dépôts. La chambre est une enceinte entièrement informatisée conçue pour permettre un contrôle automatisé et répétable des processus. Il est optimisé pour les procédés à basse température, ce qui permet de produire des couches minces de haute qualité sur des substrats avec un large éventail d'exigences de processus différentes. Le générateur RF est capable de fournir jusqu'à 100 W de puissance RF avec une gamme de fréquences allant de 6 kHz à 40 MHz. Cette puissance peut être réglée avec précision pour répondre à des exigences spécifiques de traitement du gaz. Il offre également d'excellentes caractéristiques de sécurité, telles que la protection contre les températures excessives et la détection des défauts d'arc. L'outil de distribution de gaz est constitué d'un certain nombre de sorties de distribution commandées individuellement. Cet actif permet un contrôle précis des taux et des rendements de dépôt des matériaux, y compris la capacité d'éviter le surenduit ou le sous-enduit à l'épaisseur exacte souhaitée. En outre, ce modèle offre la flexibilité d'utiliser une variété de gaz en fonction des exigences du procédé. Enfin, AIXTRON G 4 dispose d'un équipement intégré de surveillance des dépôts. Ce système se compose de spectroscopie optique d'émission (OES), de dispositifs de mesure de l'épaisseur des couches minces et de contrôle de la qualité en ligne. La combinaison de ces trois composantes donne à G4 la capacité de surveiller directement les processus de dépôt in situ, de fournir une rétroaction en temps réel et d'alerter immédiatement les opérateurs de tout problème. Au total, G4 est un réacteur révolutionnaire conçu pour fournir une large gamme de capacités de croissance des matériaux. Sa combinaison de fonctionnalités innovantes, un contrôle de haute précision et des capacités de surveillance étendues en font le choix idéal pour produire des matériaux et des nanostructures de pointe à grande échelle.
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