Occasion AIXTRON G4 #9222130 à vendre en France

AIXTRON G4 est un membre de la famille des réacteurs G-Series d'AIXTRON. Il s'agit d'un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD), spécialement conçu pour la croissance de matériaux cristallins et semi-conducteurs. Ce réacteur piloté par ordinateur présente une conception améliorée de ses composants, avec des performances plus élevées et un fonctionnement plus efficace. Il offre une meilleure uniformité, répétabilité et reproductibilité par rapport aux autres systèmes tout en couvrant un large éventail de processus de croissance. AIXTRON G 4 utilise une chambre hyperfréquence fermée, permettant le dépôt de dérivés métalliques et non métalliques sur différents matériaux de plaquettes. Il est équipé de deux sources de plasma ECR (electron cyclotron resonance), offrant un niveau de puissance réglable et un large spectre de niveaux de pression. Les équipements hyperfréquences sont contrôlés de façon indépendante, ce qui permet des changements faibles, mais précis, sur le débit des gaz. Un système vidéo AIXTRON CleanScan II est également inclus, permettant une surveillance in situ en temps réel. Le réacteur supporte une seule plaquette et une unité d'échange de serrures. Cette machine est conçue pour assurer l'uniformité et la répétabilité des processus pour les plaquettes simples et doubles faces. Le mécanisme de chargement des plaquettes est également automatiquement contrôlé et réglé, assurant un environnement sûr et fiable pour le dépôt. G4 est également très efficace avec le réglage des paramètres nécessaires tels que la température et la pression. Il est capable d'offrir un contrôle précis pour obtenir des performances et une homogénéité plus élevées avec une formation d'intercalaires précise. Sa chambre est également livrée avec un soufflet en acier inoxydable, conçu pour améliorer l'uniformité de la chambre avec sa faible contrainte mécanique, évitant la surchauffe. L'outil assure également l'uniformité sur la possibilité d'un motif répétable sur une seule plaquette. G 4 est un outil idéal pour le traitement d'une grande variété de matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs et de la microélectronique. Avec son fonctionnement précis et précis, il est idéal pour optimiser les dispositifs semi-conducteurs, tels que les couches minces de silicium, les dispositifs silicium sur isolant et le silicium contraint.