Occasion AIXTRON G4 #9382363 à vendre en France

AIXTRON G4 est un réacteur de pointe spécialement conçu pour améliorer les performances des systèmes de dépôt chimique en phase vapeur (MPCVD) par plasma hyperfréquence. AIXTRON G 4 se distingue parmi les autres réacteurs par son contrôle intégré des procédés, ses longs délais de dépôt et les résultats des dépôts répétables. Il a également un design breveté, avec une chambre à cylindre rotatif de qualité laboratoire et une cavité hexagonale isolée. Ce réacteur convient à la fois à la production de prototypes et à la production de volume moyen à élevé. G4 utilise l'énergie des micro-ondes pour créer un plasma, ce qui permet de déposer avec précision des films, des couches et des couches de films. Il utilise un e-pistolet à source multiple qui permet un contrôle indépendant du mélange gazeux et de la pression dans différentes couches. Le mélange gazeux peut être à la fois réactif et inerte et peut être contrôlé avec précision, permettant un contrôle complexe des films de croissance. G4 est également équipé d'un capteur de pression et d'un système de contrôle de gaz fonctionnant à l'extérieur. Cela permet de gérer la température et de mieux contrôler les paramètres du processus plasmatique. Il est également équipé d'un système de vide qui est deux fois plus efficace, ce qui permet de longs dépôts avec des résultats reproductibles. Ses capacités de processus de base comprennent une épaisseur de film précise et une excellente stoechiométrie. Il présente également des films de haute qualité, une mobilité électronique supérieure et des taux de croissance exceptionnels, en plus de pouvoir générer des films avec des propriétés et des compositions difficiles à réaliser dans d'autres systèmes. AIXTRON G4 excelle également dans ses capacités de surveillance et de contrôle, avec une surveillance en ligne en temps réel des paramètres plasmatiques, ainsi que l'enregistrement des données. Cela permet d'archiver et de récupérer facilement des données et des informations. En conclusion, AIXTRON G 4 est un réacteur avancé, polyvalent et fiable qui peut grandement améliorer les performances des systèmes MPCVD. Sa conception brevetée, ses films de haute qualité, son contrôle de la température et ses longs dépôts le rendent idéal pour le prototypage et la production, dans des applications allant de la nanotechnologie à la fabrication de semi-conducteurs.