Occasion AIXTRON G5 #9222132 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
AIXTRON
Modèle
G5
ID: 9222132
Style Vintage: 2012
Metal Organic Chemical Deposition (MOCVD) system 2012 vintage.
AIXTRON G5 est un outil de dépôt de pointe pour la production de matériaux à couches minces de haute qualité. Basée sur des techniques révolutionnaires d'évaporation/pulvérisation et d'imagerie, ses capacités permettent aux utilisateurs de réaliser des films avec une haute conformité et un contrôle des paramètres de croissance. AIXTRON G 5 est constitué d'une chambre de réacteur de haute précision entourée de plusieurs unités externes. La chambre elle-même est en acier inoxydable, conçu pour maintenir une pression de fonctionnement de 10-4 mbar. À l'intérieur de la chambre se trouve la source de pulvérisation et d'évaporation, composée de quatre cibles de pulvérisation et de quatre bateaux d'évaporation. Ces cibles peuvent être utilisées pour déposer des films d'épaisseurs allant de quelques nanomètres à plusieurs microns. Le taux de dépôt et la température de fonctionnement sont tous deux réglables, avec des températures allant jusqu'à 800 ° C et des taux de dépôt de plus de 5nm/seconde. Le système de contrôle de G5 est basé sur un logiciel intelligent, permettant aux utilisateurs d'effectuer une optimisation en temps réel des paramètres de dépôt. Le contrôle automatique ou manuel des cibles de pulvérisation et d'évaporation est disponible, ainsi que les processus par lots, permettant à l'utilisateur de démarrer et d'arrêter les processus sans intervention. Le système comprend également une unité d'analyse de diffraction sans cristaux, capable d'analyser et de contrôler le processus en temps réel pour obtenir la meilleure qualité de film possible. Le réacteur G 5 est équipé d'une gamme de chambres différentes et de capacités in situ, telles que des mesures de température hors axe et in situ, l'imagerie IR et la caractérisation électrique à quatre points de la sonde. Ces capacités in situ fournissent une grande source d'information sur la structure du film, tout en permettant à l'utilisateur de peaufiner les conditions de processus pour une meilleure qualité du film. AIXTRON G5 est spécialement conçu pour l'acquisition de films minces de haute qualité. Il a été utilisé pour produire des matériaux pour un large éventail d'applications, y compris des dispositifs optoélectroniques, des semi-conducteurs, des photovoltaïques et des piles à combustible. Le système est également adapté à la recherche et au développement de nouveaux matériaux et procédés. AIXTRON G 5 est un outil de dépôt avancé, offrant la flexibilité requise par les procédés de fabrication avancés. Sa combinaison de systèmes de contrôle automatisés, de capacités in situ avancées et d'une grande précision de fonctionnement en font un outil idéal pour la production de films de haute qualité.
Il n'y a pas encore de critiques