Occasion AIXTRON G5 #9238984 à vendre en France

AIXTRON G5 est un équipement de dépôt de pointe conçu pour la production de masse et la recherche. Le système est équipé d'une technologie de dépôt chimique en phase vapeur améliorée par plasma à distance pour la production de matériaux à couches minces tels que des silicures métalliques réfractaires et des semi-conducteurs. AIXTRON G 5 est un outil à grappes à plusieurs niveaux conçu pour effectuer simultanément des processus de co-pulvérisation et de dépôt ALE. L'unité dispose d'une unité de codage de plaquettes de haute précision, quatre sources de pulvérisation, deux sources magnétron, une source laser, une grande flexibilité dans la configuration des chambres et un logiciel de contrôle des outils. En outre, la machine comprend un module de positionnement pour le déplacement et le fonctionnement des plaquettes, ainsi qu'une source de liner pour le traitement direct et une source DC/AC pour le traitement secondaire. Le réacteur G5 est conçu pour offrir une uniformité et une qualité de film supérieures, tout en permettant de traiter jusqu'à 6 pouces et 8 pouces de plaquettes. G 5 dispose d'une conception unique de panneau de pulvérisation pour fournir un contrôle de gravure précis et la surface lisse de la plaquette résultante. Le design unique supporte également un revêtement à tolérance étroite pour une précision et un enregistrement en largeur de ligne élevée. L'outil AIXTRON G5 offre une flexibilité avec différentes solutions de programmation, permettant aux utilisateurs de programmer l'actif sans avoir besoin d'un ordinateur distinct. Le modèle comprend également un gestionnaire de la température du procédé, qui assure une température constante et des taux de dépôt des matériaux pour une gravure et un dépôt optimisés tout au long du processus. En outre, AIXTRON G 5 est conçu pour une production à haut débit et offre une fiabilité et une répétabilité élevées tout au long du processus de production. Le réacteur G5 est une solution unique pour tous les processus de gravure et de dépôt et offre d'excellentes capacités de contrôle des procédés. Conçu pour un débit plus élevé et pour le développement de films minces de haute qualité, le G5 est le choix idéal pour des besoins de recherche et de production avancés.