Occasion AIXTRON G5 #9363425 à vendre en France

AIXTRON G5 est un réacteur avancé de 5 pouces de diamètre, à la pointe de la technologie, utilisé pour des applications semi-conductrices et optoélectroniques. Fabriqué par AIXTRON, AIXTRON G 5 permet la production de nanostructures, de nanotechnologies et de composants électroniques optiquement actifs, ainsi que d'appareils aux caractéristiques nanométriques. G5 est basé sur une conception unique supportée par un substrat qui utilise des matériaux poreux brevetés et permet un contrôle précis d'une structure conforme. Cette flexibilité offre une gamme de paramètres de processus, permettant d'obtenir des résultats de haute qualité, de haut débit et reproductibles. La caractéristique principale du réacteur est la combinaison d'une chambre de réaction cylindrique étanche aux gaz ; un système à débit de gaz à haute pression ; et des substrats dédiés fabriqués à partir de matériaux tels que le nitrure de gallium, le silicium et le saphir. G 5 dispose également de trois modes de fonctionnement clés : haute pression, basse pression et mode de refroidissement. Ces modes assurent une utilisation optimale des ressources pour obtenir les résultats souhaités. En mode haute pression, AIXTRON G5 permet de contrôler et de mesurer des températures allant jusqu'à 1 200 ° C (2 192 ° F). En mode basse pression, le contrôle de la température est plus important et des températures allant jusqu'à 1 500 ° C (2 732 ° F) peuvent être atteintes. Le mode refroidissement offre également des paramètres de refroidissement optimaux avec des températures de -80 ° C à 30 ° C (-112 ° F à 86 ° F). AIXTRON G 5 peut être utilisé pour conduire un large éventail de processus, allant de la fixation sur de larges surfaces avec dépôt continu de films à la formation de nanostructures, ainsi que la fixation d'éléments avec d'autres substrats à des températures élevées. Il est largement utilisé pour la production de LED, de cellules solaires à couches minces et d'autres composants optoélectroniques. En outre, le G5 supporte des surfaces de réacteur variées, tant en termes de matériaux que de structure. Ceci permet une haute résolution, uniformité, contrôle serré des processus, et précision jusqu'à l'échelle nanométrique. En outre, il offre une période de fonctionnement prolongée avec des temps de cycle longs et de longs intervalles entre les travaux. Dans l'ensemble, G5 est un excellent outil pour produire des composants électroniques de haute performance, des dispositifs nanométriques et des applications optoélectroniques. Ses modes de fonctionnement variés, son système de débit de gaz puissant et sa base support de substrat conforme en font le choix idéal pour une production haut de gamme rapide et précise.