Occasion AIXTRON IC2 Crius II #293799451 à vendre en France

AIXTRON IC2 Crius II est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) métallique de pointe conçu pour la croissance épitaxiale de matériaux et dispositifs semi-conducteurs composés. Avec un accent particulier sur la performance, l'évolutivité et l'automatisation, IC2 Crius II établit de nouvelles normes en termes de productivité, de flexibilité et d'efficacité dans l'industrie des semi-conducteurs. Au cœur d'AIXTRON IC2 Crius II se trouve son équipement avancé de livraison en phase gazeuse, qui assure un contrôle précis du débit et du mélange des gaz de procédé. Ce système permet le dépôt de couches minces de haute qualité avec une homogénéité et une reproductibilité exceptionnelles, même sur des substrats de grande surface. La configuration horizontale du réacteur améliore encore l'uniformité du film en minimisant les gradients de phase gazeuse et en permettant un transport de masse efficace sur la surface de la plaquette. IC2 Crius II dispose d'une conception de réacteur à double arbre, avec des systèmes de rotation séparés de suscepteur et de tête de douche qui permettent un contrôle indépendant des gradients de température radiaux et azimutaux pendant le dépôt. Cette configuration unique maximise la qualité du film et l'uniformité de l'épaisseur sur l'ensemble de la plaquette, même à des taux de croissance élevés. De plus, la conception à double arbre facilite le chargement et le déchargement rapides des plaquettes, réduisant les temps d'arrêt et augmentant le débit global. Pour répondre à la demande croissante d'appareils optoélectroniques et électroniques de haute performance, AIXTRON IC2 Crius II offre une large gamme de capacités de processus, y compris la croissance d'hétérostructures multicouches complexes, de puits quantiques et de points quantiques. Le logiciel flexible de contrôle des processus du réacteur permet aux utilisateurs d'optimiser les conditions de croissance pour une variété de systèmes de matériaux, permettant le dépôt de nouvelles structures avec des propriétés électroniques et optiques sur mesure. En termes d'automatisation et de productivité, IC2 Crius II est équipé d'une gamme complète d'outils logiciels qui rationalisent le développement des recettes, la surveillance des unités et les tâches de maintenance. L'interface conviviale du réacteur fournit une rétroaction en temps réel sur les paramètres du procédé, permettant aux opérateurs de diagnostiquer rapidement les problèmes et d'effectuer les ajustements nécessaires. En outre, AIXTRON IC2 Crius II peut être intégré de manière transparente dans une configuration d'outil de cluster, permettant une production à haut débit de dispositifs semi-conducteurs avancés. En conclusion, IC2 Crius II représente un progrès significatif dans la technologie MOCVD, offrant un contrôle inégalé sur la qualité des films, l'uniformité et la flexibilité des procédés. Grâce à sa conception innovante, à sa machine de livraison en phase gazeuse sophistiquée et à ses fonctions d'automatisation avancées, AIXTRON IC2 Crius II est en mesure de répondre aux besoins évolutifs de l'industrie des semi-conducteurs et de permettre le développement d'appareils électroniques et optoélectroniques de nouvelle génération.