Occasion AIXTRON LYNX-III #9067043 à vendre en France

Le réacteur AIXTRON LYNX-III est un outil utilisé pour moduler la lumière dans un environnement de production. Plus précisément, LYNX-III est conçu pour des applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température. C'est une solution avancée et très efficace pour la production de films minces de grande surface et uniformes. AIXTRON LYNX-III est un milieu de lot, chambre de réaction parallèle, avec une excellente uniformité de température et qualité de sortie. Il utilise un générateur RF linéaire avancé pour des caractéristiques de matériaux supérieures, tandis que sa conception de faible masse thermique permet la dissipation et le contrôle de la chaleur. Le réacteur LYNX-III dispose d'un équipement optique multi-éléments dans lequel la source lumineuse et le plan de focalisation peuvent être ajustés pour assurer l'uniformité de traitement souhaitée. Les composants optiques sont protégés par un système de filtrage, qui absorbe des longueurs d'onde particulières de la lumière entrante afin d'optimiser l'efficacité et la qualité des couches minces produites. Un filtre supplémentaire est également utilisé pour absorber le rayonnement solaire entrant. Le réacteur AIXTRON LYNX-III a une puissance maximale de 8kW et peut accepter des matériaux sources sous forme de liquide, de gaz supercritique et de plasma. Le réacteur LYNX-III possède des propriétés diélectriques et thermiques personnalisables et peut fonctionner à la fois en configuration simple et double faisceau. Il offre une homogénéité remarquable sur tout le substrat grâce à la combinaison d'une unité optique précise et d'un réseau de distribution de réactifs qui minimise les gradients de température du substrat. AIXTRON LYNX-III est également équipé de plusieurs fonctions de sécurité, dont un interrupteur de clé d'urgence, une coupure de courant, une surveillance de la température et une LED de diagnostic qui peut alerter les opérateurs de tout dysfonctionnement potentiel. En conclusion, LYNX-III est une solution supérieure pour la production de CVD car il utilise une machine optique avancée et un générateur RF linéaire pour obtenir un maximum d'efficacité et d'uniformité. Il est très adaptable pour une gamme de matériaux, offrant des propriétés diélectriques et thermiques supérieures, tout en offrant de nombreuses caractéristiques de sécurité, garantissant un environnement de fabrication précis et sûr.