Occasion AIXTRON LYNX-III #9083531 à vendre en France

AIXTRON LYNX-III est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) par plasma utilisé pour le dépôt de films semi-conducteurs sur des plaquettes et autres substrats. C'est un système de production à trois chambres qui est utilisé pour la croissance à des températures élevées ainsi que le dopage in situ par addition de gaz chargé. Le réacteur dispose d'un étage de plaquette rotatif pour uniformité, et sa conception hexagonale permet des températures élevées dans une zone confinée. Avec son unité de purge de l'azote, il offre une excellente uniformité de dépôt, avec une meilleure qualité de dépôt de GaN dans la plage de température cible (750-850 ° C). Les pompes à vide, un FCR ainsi qu'un générateur de plasma à bord fournissent des niveaux de vide efficaces pour une qualité de film parfaite. La machine d'alimentation en gaz de procédé contrôle la composition de concentration et permet un mélange simultané. Un outil avancé de mélange de gaz fournit un contrôle inégalé et la reproductibilité de plusieurs variables telles que le débit de gaz porteur, le débit de gaz réactif et la température de réaction. L'analyseur de gaz intégré est également équipé pour surveiller différents paramètres de processus de la procédure de dépôt. Le réacteur dispose également d'un outil de manutention automatisé des plaquettes, comprenant le refroidissement et le chauffage des substrats. LYNX-III a un design compact pour une installation et un entretien faciles. Il utilise la technologie du vide à distillation et comprend plusieurs dispositifs de sécurité pour assurer la protection du personnel contre les chocs électriques, les fuites de gaz et les brûlures accidentelles. Un faible temps de rampe de < 60 secondes assure l'homogénéité de la plaquette, et le modèle est capable de supporter n'importe quelle conception de cavité. Des spectromètres de masse à transformée de Fourier multiple (FTIR) et quadrupole peuvent être installés pour obtenir des résultats de haute qualité. AIXTRON LYNX-III est un équipement avancé et fiable qui permet un processus de dépôt hautement reproductible et contrôlable. Idéal pour les laboratoires de recherche et développement, ainsi que pour les installations de fabrication, il offre une compétence fiable et rentable en matière de dépôt de couches minces.