Occasion AIXTRON LYNX-iXP #9092600 à vendre en France

AIXTRON LYNX-iXP
Fabricant
AIXTRON
Modèle
LYNX-iXP
ID: 9092600
Taille de la plaquette: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP est un équipement avancé de traitement du plasma clé en main conçu pour des applications de recherche et de production dans la fabrication de semi-conducteurs. Il intègre une source de dépôt de forte puissance capable de déposer des couches ultra minces de métaux et d'autres matériaux à des vitesses incroyablement élevées, avec uniformité et précision. Le système est également équipé d'une chambre de processus interactive unique, offrant la flexibilité pour ajuster rapidement les conditions de processus en fonction de l'application. Avec LYNX-iXP, les clients sont en mesure de mener leurs opérations de processus avec plus de rapidité, d'efficacité et d'économies. AIXTRON LYNX-iXP est équipé d'une unité de manutention automatique de plaquettes intégrée, conçue pour fournir un traitement ininterrompu et fiable afin de réduire le risque de contamination et d'endommagement de la plaquette en cours de traitement. Son chargement automatique stable et de haute précision assure un débit efficace et un rendement amélioré, même en fonctionnement avec de plus grandes tailles de plaquettes ou des matériaux avec des taux de dépôt plus élevés. LYNX-iXP est alimenté par un générateur de plasma avancé, permettant aux utilisateurs de programmer leurs paramètres de dépôt précisément et indépendamment les uns des autres. Cela permet une grande homogénéité des procédés d'une étape à l'autre, qu'il s'agisse d'épaisseur de couche, de composition chimique ou de topographie de surface. Cette précision fait également d'AIXTRON LYNX-iXP l'outil idéal pour le dépôt de matériaux spécialisés ou pour le dépôt de caractéristiques à l'échelle nanométrique. Pour la sécurité et l'efficacité, LYNX-iXP dispose d'une machine de purge in situ (IPS) intégrée, qui permet aux utilisateurs d'ajuster rapidement et avec précision la pression, la température, le débit et le mélange de l'outil. Cela aide à maintenir la qualité du procédé tout en maintenant le méthane et les autres réactifs dans les limites de sécurité. AIXTRON LYNX-iXP dispose également de capacités d'interface multiples, offrant la flexibilité d'intégrer avec une variété de systèmes existants et de combiner les paramètres de processus et les mesures superposées. L'actif d'autosurveillance permet aux utilisateurs d'optimiser les conditions de processus tout en surveillant en permanence les performances globales. Le modèle peut également être amélioré à mesure que les demandes des utilisateurs augmentent, ce qui permet une transition harmonieuse de la recherche à la production. En conclusion, LYNX-iXP offre aux utilisateurs une solution complète de traitement plasma clé en main, avec précision et flexibilité pour répondre aux besoins d'un large éventail d'applications. En combinant automatisation avancée, outils de haute précision et processus intégrés, AIXTRON LYNX-iXP peut améliorer l'efficacité et la rentabilité du processus de production.
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