Occasion AIXTRON LYNX-iXP #9098086 à vendre en France

AIXTRON LYNX-iXP est un réacteur unique conçu spécifiquement pour le dépôt de matériaux semi-conducteurs tels que le silicium, l'arséniure de gallium et le phosphure d'indium, entre autres. Le réacteur a une structure unique avec un seul tube de procédé réglable en plaquette, ce qui permet de déposer différentes couches en une seule opération de dépôt. De plus, la chambre peut supporter différentes tailles de substrat sur différents substrats, y compris des substrats de silicium, de l'arséniure de gallium et du phosphure d'indium, ainsi que des substrats composés non conducteurs. Le réacteur est conçu pour assurer le plus haut niveau de stabilité du procédé et le contrôle le plus fiable pour un procédé industriel de dépôt volatil et hygroscopique. Cet objectif est atteint grâce à l'utilisation d'une robotique de pointe et d'un équipement de micro-ordinateur pour l'automatisation des processus et la communication ; un système de chauffage à deux niveaux ; une unité de commande modulaire ; scanners à réponse rapide ; et une machine à vide avancée. Une pression de chambre de 0,5 Torr est réalisable avec LYNX-iXP, ce qui permet des taux de dépôt élevés tout en maintenant l'uniformité sur tout le substrat. La chambre est également équipée d'un outil intégré d'imagerie thermique qui fournit en temps réel des informations sur la qualité des couches déposées. Cette rétroaction en temps réel permet une optimisation plus rapide des processus et la capacité de prédire plus précisément l'issue des dépôts. AIXTRON LYNX-iXP peut accueillir des substrats jusqu'à 6-in x 4-in et peut être utilisé avec une variété de porteurs de plaquettes. Le réacteur dispose également d'un module intégré d'uniformité supérieure (SUU) pour l'uniformité d'épaisseur des couches et est compatible avec une gamme de procédés à haute température. LYNX-iXP a une fiabilité à long terme et un excellent record en long fonctionnement et débit de plaquettes. Le contrôleur modulaire intégré (IMC) permet aux utilisateurs de contrôler les paramètres du processus pendant le dépôt des plaquettes, ainsi que la capacité d'accéder à l'historique de fonctionnement et aux performances de l'actif. Il est facile à utiliser, en plus d'être très fiable. Dans l'ensemble, AIXTRON LYNX-iXP fournit un processus de dépôt précis et fiable pour un large éventail d'applications et de substrats. Le réacteur est extrêmement polyvalent, permettant le dépôt de divers matériaux, ainsi qu'un contrôle et une surveillance précis du processus de dépôt. Sa fiabilité à long terme et son historique de fonctionnement font du réacteur un excellent choix pour diverses applications de dépôt de matériaux semi-conducteurs.