Occasion AIXTRON LYNX-iXP #9098087 à vendre en France

AIXTRON LYNX-iXP est un réacteur de pointe à dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) conçu pour répondre aux exigences les plus élevées de l'industrie des semi-conducteurs et des MEMS. Cette technologie innovante permet la création précise et répétable de couches minces ou de substrats même dans les processus les plus difficiles. LYNX-iXP est capable de manipuler des processus à gros lots et à substrat unique sans compromettre les performances ou la fiabilité. Le réacteur AIXTRON LYNX-iXP offre des performances inégalées en termes d'uniformité, de stabilité et de fiabilité, le tout sans compromettre le coût. LYNX-iXP est un système PVD flexible qui peut être utilisé pour de nombreuses applications, de la recherche de pointe à la production mature. Il dispose d'un tube en quartz enduit de céramique, fournissant une température de substrat douce et uniforme tout en utilisant un gaz de procédé à base d'argon-azote. AIXTRON LYNX-iXP dispose également d'une longueur de zone de dépôt réglable pour la composition du film de réglage fin. Le réacteur dispose de systèmes de contrôle qui offrent une gamme d'options de recette, y compris des recettes faciles à mettre en œuvre et optimisées en temps de cycle. Cela facilite le passage rapide d'un processus à un autre. LYNX-iXP est également livré avec une chambre source intégrée qui aide à réduire la contamination des métaux sur de longs cycles de processus. En plus de sa conception robuste et de sa chambre source optionnelle, AIXTRON LYNX-iXP offre aux développeurs une plate-forme pour personnaliser les processus et les matériaux pour leur propre développement. Le réacteur peut être équipé de dispositifs tels que le plasma à distance, le nettoyage du substrat et le refroidissement post-processus. Cela permet aux développeurs d'expérimenter différents matériaux, recettes de processus et techniques qui peuvent conduire à de nouveaux développements dans la fabrication de micro- et nanoélectroniques. LYNX-iXP est un réacteur LPCVD efficace, fiable et économique pour la production d'appareils micro et nano-électroniques. Ce réacteur innovant offre des capacités qui ne se retrouvent pas dans d'autres systèmes, y compris le développement de procédés, des recettes ajustées et des films minces uniformes de haute qualité. Avec son large éventail d'options de processus et de fonctionnalités personnalisables, AIXTRON LYNX-iXP est un choix idéal pour des applications exigeantes.