Occasion AIXTRON LYNX3 #9158988 à vendre en France

AIXTRON LYNX3 est un réacteur à épitaxie III-V haut de gamme conçu pour produire des matériaux III-V de la plus haute qualité. Il est basé sur les plates-formes industrielles AIXTRON 300mm HDP-CVD et LPCVD et offre des tailles de substrat jusqu'à 200mm de diamètre. Sa plate-forme CVD avancée fournit des procédés à basse température, haute précision et à haut débit qui la rendent parfaite pour des applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs composés. LYNX3 réacteur est conçu pour cultiver des monocouches, des multicouches et des hétérostructures en utilisant une variété de matériaux III-V. Sa technologie MELD (Modulated Epitaxial Layer Deposition) permet la croissance précise et à basse température de couches multicomposantes telles que les points quantiques et les anneaux quantiques. Les caractéristiques uniques d'AIXTRON LYNX3 comprennent un alignement et un profilage avancés des plaquettes, un contrôle avancé de la température et des capacités de caractérisation étendues. Le réacteur a une large plage de pression de travail et un contrôle de température avancé avec une précision de 0,01 ° C Son système avancé d'alignement et de profilage des plaquettes fournit un alignement précis des plaquettes dans les axes X, Y et Z. Ses systèmes extensibles de caractérisation et de métrologie peuvent déterminer les épaisseurs, les indices de réfraction et la structure cristalline. La diffusion avancée de SiNx Windows et la gravure Windows du réacteur permettent une anisotropie de surface efficace et des propriétés de surface cristalline pour des performances de dispositif plus élevées. Sa capacité d'oxydation en panache permet une oxydation directe et des couches de transport numérique avec une meilleure reproductibilité et une meilleure compréhension des paramètres d'oxydation. Le réacteur dispose également d'un contrôle programmable des obturateurs, rendant les expériences répétables et améliorant l'optimisation des processus. LYNX3 est conçu pour répondre aux besoins spécifiques des utilisateurs industriels et offre un haut degré d'évolutivité et de flexibilité. Avec ses caractéristiques avancées et sa contrôlabilité améliorée, le réacteur est idéal pour les structures multicouches et la croissance des hétérojonctions avec la plus grande précision et le meilleur débit. Sa plate-forme CVD de pointe garantit des propriétés polycristallines reproductibles et uniformes pour l'optimisation des performances des appareils.