Occasion AIXTRON LYNX3 #9159015 à vendre en France

AIXTRON LYNX3 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) utilisé pour le dépôt avancé de couches minces. LYNX3 combine des technologies de pointe telles que l'ingénierie linéaire multi-faisceaux, le diagnostic optique et le chauffage cylindrique inductif breveté RF avec une conception fiable de l'équipement, ce qui en fait l'outil idéal pour le dépôt de couches minces et de nanostructures. Équipé de plusieurs composants matériels et logiciels, le système AIXTRON LYNX3 offre une gamme complète de capacités pour produire des films minces et des nanostructures de haute qualité. L'unité de dépôt utilise trois sources d'ingénierie multifaisceaux linéaires, une machine de détection optique, un chauffage RF inductif et deux injecteurs pour faciliter le processus de dépôt. Les sources d'ingénierie multifaisceaux linéaires sont conçues pour permettre un contrôle précis du niveau d'ionisation dans la chambre du réacteur tout en permettant la croissance de couches minces et de nanostructures de haute qualité. En outre, l'outil de détection optique a une résolution temporelle élevée et peut détecter une large gamme de signaux d'émission au cours du processus de dépôt. LYNX3 dispose également d'un actif de chauffage RF inductif spécialement conçu pour la production et le dépôt de couches minces. Ce modèle utilise un élément chauffant inductif cylindrique à deux faces avec une faible inductance, une conception efficace et durable pour une alimentation RF cohérente et hautement contrôlée. L'élément de chauffage RF sur AIXTRON LYNX3 est réglable et peut être couplé indépendamment avec les sources d'ingénierie multifaisceaux linéaires pour une flexibilité maximale du processus. LYNX3 dispose également de deux ports d'injection pour faciliter le dépôt des nanostructures et utiliser au mieux les matériaux existants. Cela permet des niveaux de dopants plus élevés et des taux de croissance plus élevés avec une plus grande flexibilité du processus. En outre, comme pour tous les systèmes AIXTRON, AIXTRON LYNX3 est entièrement compatible avec une variété de matériaux de dépôt différents et peut être utilisé pour un large éventail d'applications. Dans l'ensemble, LYNX3 est un équipement polyvalent et fiable pour la production et le dépôt de couches minces et de nanostructures. L'ingénierie multifaisceaux linéaire avancée, le diagnostic optique et les capacités de chauffage RF inductives font d'AIXTRON LYNX3 un outil idéal pour les utilisateurs expérimentés et novices. En outre, les deux orifices d'injection et l'élément chauffant RF réglable augmentent encore sa flexibilité, permettant aux utilisateurs de produire des films minces et des nanostructures avec une qualité et une efficacité supérieures.