Occasion AIXTRON LYNX3 #9206615 à vendre en France

AIXTRON LYNX3 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt de couches minces dans des applications microélectroniques et optoélectroniques telles que les cellules solaires, les micro-LED, les écrans souples et les dispositifs à mémoire semi-conductrice. Il offre une excellente uniformité et une couverture supérieure des parois latérales, ainsi qu'une couverture supérieure pour les structures complexes. LYNX3 utilise une technologie de réacteur à paroi froide, ce qui réduit considérablement la variation de température dans la chambre de dépôt. Cette technologie élimine les fluctuations de température indésirables et assure des résultats cohérents. Le réacteur AIXTRON LYNX3 est équipé d'une tête de douche verticale à trois colliers conçue pour le dépôt de films d'épaisseur uniforme sur de grandes surfaces. Il est disponible dans une variété de tailles de chambre de 8 pouces à 24 pouces et offre à la fois des capacités de production de volume élevé et des capacités de recherche et développement de volume moyen. Le réacteur est également équipé de caractéristiques de sûreté avancées et de multiples capacités de contrôle de processus, ce qui le rend idéal pour les applications commerciales et de recherche. LYNX3 est équipé d'un système d'injection multi-gaz (MGIS) qui permet aux utilisateurs de contrôler avec précision les débits de réactifs pour un contrôle optimal du processus. En outre, le réacteur est équipé de buses convergentes-divergentes (CDN) qui permettent l'uniformité du film sur les plaquettes planes ainsi que sur les parois latérales d'objets tels que MEMS et couches diélectriques avancées. Le système supporte également le Front Wall Injection (FWI), une caractéristique conçue pour permettre le dépôt de cuivre sur des couches métallisées métallisées. Le réacteur AIXTRON LYNX3 dispose de systèmes avancés de régulation de la puissance et de la température qui permettent aux utilisateurs de contrôler avec précision et précision les paramètres du processus, ainsi que le processus de dépôt en temps réel. La visualisation optique des échantillons permet à l'utilisateur d'évaluer la qualité des films de dépôt. Le réacteur supporte également un logiciel de surveillance des processus, qui permet aux utilisateurs d'identifier rapidement et de résoudre les problèmes de processus. En conclusion, LYNX3 est un réacteur CVD avancé conçu pour répondre à des exigences et des applications exigeantes dans les industries de la microélectronique et de l'optoélectronique. Il est équipé de fonctionnalités avancées telles que le système d'injection multi-gaz (MGIS) et l'injection frontale (FWI) qui permettent l'uniformité du film sur les plaquettes plates ainsi que sur les parois latérales des objets. Le réacteur dispose également de capacités avancées de contrôle et de surveillance des procédés, ce qui en fait un choix idéal pour la production ainsi que pour la recherche et le développement.