Occasion AIXTRON Tricent #9396754 à vendre en France

AIXTRON Tricent est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à trois électrodes spécialement conçu pour le dépôt de matériaux à base de nitrure. Tricent est conçu pour déposer des couches de nitrure par décomposition de composés volatils métal-nitrure tels que nitrure d'aluminium, nitrure de gallium et nitrure d'indium gallium. Il utilise un procédé piloté RF/DC de type planaire, dans lequel deux électrodes sont utilisées pour créer le plasma, et une électrode auxiliaire pour contrôler la polarisation continue. Cette configuration améliore les performances des procédés en raison de la production de plasma plus élevée, puisque le biais DC permet une thermalisation plus rapide, conduisant à des taux de dépôt plus élevés. AIXTRON Tricent peut fonctionner sous différents gaz de procédé nitrure, y compris NH3, GeH4 et silane. Ce réacteur est capable d'atteindre des taux de dépôt élevés compte tenu de sa conception de réacteur de petite taille. Il présente une capacité de commutation de vitesse de dépôt très rapide, ce qui le rend idéal pour des applications impliquant une commutation rapide de gaz de procédé et/ou de température de substrat, comme pour le dépôt de couches épaisses. Tricent offre également un contrôle de la température du substrat à la volée et du gaz, ce qui permet de surveiller et d'optimiser le processus en cours d'exécution. AIXTRON Tricent utilise des capacités d'optimisation automatisée des processus, permettant aux utilisateurs d'ajuster rapidement les paramètres des processus. Il est ainsi plus facile pour les utilisateurs d'apprendre comment faire fonctionner le réacteur et de réduire au minimum les temps d'arrêt lors de nouveaux systèmes ou procédés de matériaux. De plus, les utilisateurs bénéficient de systèmes intelligents avancés de contrôle des processus qui utilisent des boucles de rétroaction et des diagnostics pour surveiller le processus et maintenir des taux de dépôt cohérents. Enfin, Tricent dispose d'un boîtier en acier inoxydable qui peut être facilement entretenu et nettoyé. L'intérieur du réacteur débouche sur toute surface non occupée par le substrat, supprimant les dépôts sur des surfaces non intentionnellement exposées aux réactifs. Il en résulte une amélioration de la qualité de la surface et des taux de dépôt, ainsi qu'une fiabilité et une reproductibilité accrues.