Occasion AIXTRON TS 19x2" #9386610 à vendre en France

AIXTRON TS 19x2"
Fabricant
AIXTRON
Modèle
TS 19x2"
ID: 9386610
Style Vintage: 2008
MOCVD Systems 2008 vintage.
AIXTRON TS 19x2 est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température qui est utilisé pour la production de différents types de matériaux, tels que des films ou des revêtements dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système est équipé d'un réacteur tubulaire à paroi chaude, avec un support de substrat refroidi et quatre injecteurs de gaz chauffés avec des réglages de température réglables. AIXTRON TS 19x2 est une unité fiable et efficace qui permet un contrôle précis de l'environnement où les matériaux sont produits. Il offre jusqu'à 18 zones de température réglables indépendamment, ce qui permet de créer une répartition homogène des températures au sein du réacteur et d'obtenir des résultats plus précis. AIXTRON TS 19x2 comprend également une chambre de procédé entièrement fermée qui peut être serrée jusqu'à 10-3 torr. Cela permet de limiter la quantité de gaz de procédé qui s'échappent lors du dépôt des matériaux. AIXTRON TS 19x2 a une vitesse de rotation réglable capable de produire une couche de film de haute qualité, uniforme et homogène. Il a également un débit élevé tout en utilisant moins d'énergie, ce qui en fait une alternative moins coûteuse aux systèmes CVD traditionnels. En outre, cette machine peut être personnalisée pour accueillir différentes tailles de substrats, ce qui la rend adaptée à une variété d'applications. AIXTRON TS 19x2 est un outil polyvalent qui peut être utilisé pour divers procédés, tels que le dépôt de carbone diamant, les revêtements multicouches et le dépôt en couches minces. Il offre un contrôle précis des conditions de procédé et des dépôts uniformes en utilisant une distribution uniforme des gaz précurseurs, ce qui le rend adapté à diverses applications industrielles. Dans l'ensemble, AIXTRON TS 19x2 est un actif CVD fiable qui convient à une variété de processus. Il offre un débit élevé, des réglages de température réglables, et une chambre de processus étanche à la pression, ce qui en fait un modèle efficace pour une gamme d'applications.
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