Occasion AIXTRON TS CCSH19*2" #9167079 à vendre en France

AIXTRON TS CCSH19 * 2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température pour la production de dépôts en couches minces de qualité et de couches épitaxiales. Il est principalement utilisé pour la croissance de matériaux semi-conducteurs composés et comporte une caractéristique innovante : une géométrie de substrat réglable verticalement. Cela permet une plus grande gamme de géométries de croissance que les autres réacteurs CVD, et peut également accueillir des tailles de substrat jusqu'à deux pouces de diamètre. La chambre principale de AIXTRON TS CCSH19 * 2 est composée de composants en acier inoxydable et est conçue pour optimiser le rendement du processus. Il intègre une chambre de transition soudée au faisceau d'électrons à double paroi et un bateau en molybdène pour le matériau source, assurant qu'aucune particule du processus de revêtement ne soit libérée à l'extérieur de la chambre principale. La chambre principale est également conçue pour assurer une protection contre la rétro-réflexion du matériau cible. La chambre dispose également d'un contrôle de température pour le substrat jusqu'à une plage efficace de + 2000C, et de rétroaction pyrométrique pour une cohérence accrue du procédé. Le réacteur AIXTRON TS CCSH19 * 2 dispose également d'un système breveté de protection de l'obturateur source, qui maintient le matériau source en contact protecteur avec le substrat même lors d'événements de dépôt réactif. Cela aide à assurer la cohérence du processus de dépôt et protège le matériau source contre l'oxydation ou la désactivation prématurée. Le réacteur AIXTRON TS CCSH19 * 2 est équipé de ports d'entrée et de sortie, y compris les conduites de gaz, les conduites de vide et les régulateurs de débit massique. Ceci permet un contrôle précis des gaz sources et des dopants éventuels, et les régulateurs de débit massique assurent un contrôle complet de la vitesse de dépôt. AIXTRON TS CCSH19 * 2 comprend également un contrôleur de processus programmable, qui permet un contrôle précis de la température, de la pression et des débits de dépôt. Ces caractéristiques assurent un contrôle précis du processus de dépôt et des résultats cohérents et reproductibles. De plus, le réacteur AIXTRON TS CCSH19 * 2 comprend une gamme de fonctions de sécurité intégrées, qui comprennent un capteur de pression, un capteur de température et un chronomètre de fin de processus. Cela garantit que le fonctionnement reste sûr et cohérent, même pendant les processus les plus longs. Tous les contrôles sont intégrés au système pour une surveillance et une optimisation faciles du processus. Le réacteur AIXTRON TS CCSH19 * 2 est un réacteur CVD fiable, facile à utiliser et efficace pour le dépôt de couches minces de qualité. Il offre une large gamme de tailles et de géométries de substrat, et permet un contrôle précis des paramètres de dépôt. Il a également une variété de caractéristiques de sécurité pour assurer un fonctionnement sûr et cohérent. Toutes ces caractéristiques en font un choix idéal pour la production de couches de couches minces et de structures épitaxiales de haute qualité.