Occasion AIXTRON TS CCSH30x2" #9386936 à vendre en France

AIXTRON TS CCSH30x2 est un réacteur par lots couramment utilisé, idéal pour le dépôt de couches minces. Il est capable de déposer des couches d'épaisseurs différentes, avec une excellente homogénéité et une forme de profil contrôlée. Ce réacteur est également adapté à diverses applications, allant du dépôt de pulvérisateurs à l'ALD (dépôt de couche atomique). La conception du réacteur comprend une source unique de magnétron RF, un support de substrat antireflet (AR) et une multi-cathode. La température de la chambre peut être régulée indépendamment pour chaque plaquette dans une plage allant de la température ambiante à plus de 500 ° C La température du procédé peut être contrôlée avec précision par la source RF et couvre une large gamme de points de fonctionnement arbitraires. La concentration du champ magnétique à l'intérieur de la chambre permet le dépôt d'hétérostructures même à basse température. Le porte-plaquettes est conçu pour les substrats planaires et à base de fil, et la hauteur de la source peut être ajustée pour accueillir différents porte-substrat. Le réacteur est également équipé d'un système de pré-configuration automatisé qui, sur la base de paramètres définis par l'utilisateur, est capable de fixer les conditions de traitement, y compris la pression, la température, la polarisation et la vitesse de la pompe turbomoléculaire. AIXTRON TS CCSH30x2 est un réacteur par lots fiable et efficace capable de déposer des couches de différentes épaisseurs. Sa conception permet une excellente uniformité et une forme de profil contrôlée, avec des conditions de processus flexibles et une large plage de température. Le réacteur est équipé d'un système de pré-configuration automatisé pour une configuration rapide et facile des paramètres du procédé, et la source de magnétron RF à source unique offre une flexibilité maximale pour le dépôt d'hétérostructures. Dans l'ensemble, AIXTRON TS CCSH30x2 est un choix idéal pour une variété d'applications, du dépôt de pulvérisateurs à l'ALD.