Occasion AIXTRON TS CCSH31x2" #9386612 à vendre en France

AIXTRON TS CCSH31x2 est un réacteur à haute température à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la croissance à haut rendement de couches minces. Propulsé par la technologie AIXTRON brevetée CSC, le réacteur offre une approche nouvelle et robuste des procédés CVD pour une variété d'industries. La TS CCSH31x2 est une chambre de réacteur à pression atmosphérique monobloc, configurée horizontalement, capable de produire des films avec une excellente homogénéité, des taux de dépôt élevés et un contrôle de granularité supérieur. La conception CSC permet une modulation précise des concentrations de précurseurs et permet la formation de films de meilleure qualité par rapport à des approches plus traditionnelles. La chambre du réacteur est constituée d'une chambre fendue supérieure et inférieure séparées par un ensemble de chicanes. La chambre supérieure contient le matériau à base de sélénure de zinc à traiter, tandis que la chambre inférieure abrite le bloc chauffant chauffant à base de carbure de silicium. L'ensemble de chicanes maintient la température désirée et aide à conserver les précurseurs de processus dans la chambre inférieure, assurant une croissance de meilleure qualité. Le TS CCSH31x2 est équipé de fonctionnalités CSC avancées, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision le débit et la température des précurseurs de processus. Un système secondaire de distribution de gaz aide à réduire la quantité de gaz actif, améliorant l'efficacité énergétique tout en maintenant les paramètres de processus souhaités. De plus, le système CSC offre des temps de rafraîchissement allant jusqu'à 60 minutes, permettant des temps de roulage plus courts avec moins d'usure sur l'équipement. La conception unique d'AIXTRON TS CCSH31x2 offre une solution fiable et rentable pour le dépôt de couches minces CVD, permettant aux utilisateurs de produire des couches minces supérieures pour une variété d'industries. Équipé de caractéristiques CSC sophistiquées, le réacteur peut maintenir les températures et les débits désirés pendant de longues périodes. En outre, d'autres caractéristiques telles que le système secondaire de distribution de gaz et des temps de refroidissement allant jusqu'à 60 minutes optimisent davantage le processus et assurent des résultats de meilleure qualité.