Occasion AIXTRON TS CCSH55x2" #9386947 à vendre en France

AIXTRON TS CCSH55x2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe utilisé pour la fabrication de revêtements et dispositifs à couches minces. Il s'agit d'un réacteur à fente de 200 mm de large sur 85 mm de long, destiné à la réalisation de dispositifs d'épaisseur nanométrique, comprenant un élément chauffant intégré. L'équipement fonctionne en traitant un seul matériau semi-conducteur à la fois, sous température et pression atmosphérique contrôlées, soit en une seule phase, soit en une série de phases multiples. Les principaux composants d'AIXTRON TS CCSH55x2 sont la chambre de traitement, la tête de réacteur CVD et le système de distribution de gaz. La chambre de traitement est une enceinte étanche en acier inoxydable, créant un environnement de température uniforme et évitant la contamination de l'air. La tête de réacteur CVD contient des éléments chauffants, qui sont utilisés pour chauffer la plaquette et réchauffer uniformément les réactifs. Il abrite également une fenêtre à quartz, permettant aux rayons infrarouges d'entrer dans la chambre de traitement, tout en protégeant le matériau semi-conducteur des poussières et des rayons UV nocifs. L'unité de distribution de gaz est chargée d'acheminer les réactifs vers la chambre de traitement en quantités contrôlées avec précision et à des vitesses contrôlées avec précision. AIXTRON TS CCSH55x2 dispose de plusieurs fonctions de sécurité pour assurer la sécurité de l'utilisateur. La machine comprend une combinaison de soupapes de sécurité pression et température, limitant la température et l'augmentation de pression, ainsi que des boutons d'arrêt d'urgence en cas de défaillance d'un outil ou d'une chambre. Le réacteur comporte également une couche d'isolation sous vide entourant la chambre de traitement, ce qui minimise la possibilité que toute matière dangereuse pénètre dans l'environnement de travail. AIXTRON TS CCSH55x2 dispose également d'une large gamme de fonctionnalités avancées. Cela inclut l'utilisation d'une interface utilisateur graphique, qui permet une lecture et une communication directes entre l'utilisateur et le réacteur CVD. Cela aide à prévenir les erreurs en fournissant une rétroaction en temps réel sur les paramètres de l'actif. Le réacteur CVD présente également de multiples paramètres réglables, permettant aux utilisateurs d'obtenir la flexibilité et la précision nécessaires à la production de couches minces de haute qualité. AIXTRON TS CCSH55x2 est idéal pour toute une gamme d'applications, y compris le dépôt de semi-conducteurs, le revêtement de couches minces, l'intégration monolithique et la création de composants de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur offre la dernière technologie et des performances supérieures, ce qui en fait un outil fiable pour la production de matériaux avec des couches précises et uniformes, sur une gamme de tailles de substrat.